Occasion OXFORD Plasmalab 100 #293812431 à vendre en France

Fabricant
OXFORD
Modèle
Plasmalab 100
ID: 293812431
Reactive Ion Etcher (RIE).
OXFORD Plasmalab 100 est un graveur/asher conçu pour fournir des conditions optimales pour la production de dispositifs semi-conducteurs de haut niveau. L'équipement combine un environnement à vide faible (1 à 1,5x10-2torr) et une source de plasma à distance basée sur Plasmalab 100 - TEM Controlled Source. OXFORD Plasmalab 100 est un système avancé de traitement du plasma en trois étapes, permettant un contrôle précis et précis des paramètres du processus. La première étape consiste en un réseau d'accord/adaptation informatisé à grande vitesse, permettant une entrée de puissance variable. La deuxième étape consiste en un multiplicateur d'électrons qui est utilisé en liaison avec un calculateur de commande pour moduler le courant ionique. La troisième étape consiste en une chambre de gravure cylindrique à quartz étanche sous vide. Cette chambre est spécialement conçue pour permettre à l'utilisateur de mieux contrôler les paramètres de gravure et optimiser les performances. Plasmalab 100 est idéal pour réaliser des contacts et des séparations précis et à haut courant des composants ainsi que pour produire des dispositifs à haute densité. Le haut degré de précision et de répétabilité de l'appareil le rend également idéal pour la fabrication en grand volume de dispositifs. OXFORD Plasmalab 100 dispose d'une machine de diagnostic interne qui surveille l'environnement du processus pour garantir une performance optimale. L'outil dispose également d'une lecture numérique de haute précision qui permet à l'utilisateur de mieux contrôler les paramètres de gravure et de contrôler avec précision le courant ionique. Plasmalab 100 dispose également d'une variété de gaz de procédé, y compris Argon, Oxygène, et Hydrogène, qui fournissent un contrôle supplémentaire des paramètres de gravure. Les gaz amplifient également les niveaux de puissance, contribuant à créer de meilleures liaisons et précision. OXFORD Plasmalab 100 est également livré avec une source de plasma à distance unique, permettant une gravure plus précise et un contrôle précis des paramètres du processus. Plasmalab 100 etcher/asher est adapté à une variété de tâches, y compris le contact et la séparation des composants, la fabrication de structures d'essai, et les contacts à haut courant. L'actif comprend également une chambre de gravure à quartz étanche sous vide, 18 motifs d'électrodes et un modèle de diagnostic interne pour garantir une performance optimale. OXFORD Plasmalab 100 permet de produire facilement des résultats de haute qualité et fiables, garantissant le succès de toute tâche de production. Son haut degré de précision et de répétabilité le rendent idéal pour la fabrication en grand volume de dispositifs semi-conducteurs et en font un atout précieux pour tout environnement de production.
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