OXFORD Plasmalab 100 d'occasion à vendre

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OXFORD

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Plasmalab 100

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OXFORD

Plasmalab 100

System With ICP 180 Gases: C4F8, CHF3, SF6 2005 vintage.

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Plasmalab 100

PECVD System, 8" Process: SiN.

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Plasmalab 100

System Type: ICP 380 2013 vintage.

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Plasmalab 100

ICP Reactive Ion Etcher (RIE), 3"-8" Chamber Low temperature silicon etching system Unique process

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Plasmalab 100

Dry etcher No computer.

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Plasmalab 100

ICP-RIE System LGIT Does not include dry pump.

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Plasmalab 100

PECVD System LGIT Does not include dry pump.

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Plasmalab 100

System.

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Plasmalab 100

ICP System.

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Plasmalab 100

PECVD System.

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Plasmalab 100

ICP System, 6".

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Plasmalab 100

ICP-RIE System.

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Plasmalab 100

ICP Reactive Ion Etcher (RIE) LED Field PECVD.

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Plasmalab 100

PECVD System, 2"-6".

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Plasmalab 100

ICP Etcher, 2"-6".

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