Occasion OXFORD Plasmalab 100 #9188881 à vendre en France

OXFORD Plasmalab 100
Fabricant
OXFORD
Modèle
Plasmalab 100
ID: 9188881
Taille de la plaquette: 6"
ICP Etcher, 6" Currently crated.
OXFORD Plasmalab 100 est un puissant graveur/asher. C'est un équipement à base de chambre, utilisé pour la nanofabrication en combinaison avec des processus plasmatiques de haute performance. Le système dispose d'une grande chambre à quartz avec un environnement à basse dépression et des flux de gaz contrôlés, permettant une gravure précise ou le travail des cendres. La chambre est également équipée d'un grand support de substrats ainsi que de modules optiques in situ dédiés, d'un logiciel de cartographie 2D et d'une chambre segmentée avec différents régimes de pression. L'unité Plasmalab 100 a un approvisionnement en gaz ‐ magnétique et elle utilise des renvois de RF‐driven, en permettant à l'utilisateur de contrôler les espèces actives à l'intérieur de la chambre et des couches de dépôt sur le substrate. La machine est idéale pour la gravure et le traitement des cendres de différents matériaux, y compris des structures complexes. Il permet un contrôle précis et la répétabilité du processus développé puisque les densités, la température et les pressions de chaque espèce de plasma peuvent être ajustées et stabilisées avec précision. OXFORD Plasmalab 100 est également capable de travailler avec une variété de substrats, tels que l'acier inoxydable, le silicium, le verre et les substrats polymères, permettant aux utilisateurs de développer des applications de gravure et de cendres pour le développement de structures nanométriques. Plasmalab 100 dispose d'un modèle avancé de traitement des gaz contrôlé par ordinateur, permettant l'utilisation de différents gaz, permettant une gravure optimale et des propriétés de cendres. L'équipement est également équipé d'outils de diagnostic avancés, tels que des spectromètres de masse, des sondes Langmuir et des réseaux d'électrodes toroïdales, qui permettent à l'utilisateur de contrôler la dynamique des processus plasmatiques. OXFORD Plasmalab 100 peut également être utilisé pour les procédés de nitruration, l'anodisation et les modifications de surface. En outre, le système est compatible avec une large gamme de composants accessoires, tels que masques, mandrin électrostatique, masques d'ombre et microscopes. Plasmalab 100 a été conçu pour fournir des processus de gravure et de cendres haute performance dans un environnement à basse pression, sûr et répétable, permettant à l'utilisateur de développer en toute sécurité des nanostructures complexes. Ses fonctionnalités avancées permettent une optimisation et une reproductibilité rapides et précises des processus plasmatiques. L'unité est adaptée aux applications de recherche et de production et elle est souvent utilisée dans le traitement des semi-conducteurs et les applications MEMS.
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