Occasion OXFORD Plasmalab 80 Plus #293697553 à vendre en France

ID: 293697553
Taille de la plaquette: 4"-6"
Style Vintage: 1995
PECVD System, 4"-6" Deposition: SiO2, SiH4 at 300°C No burner gas abatement EDWARDS E2M80 Vacuum pump Mass Flow Controller (MFC) RF Generator PC Controller 1995 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plus est un équipement de graveur/asher très avancé avec la technologie plasma conçu pour les processus de gravure et ashing de précision dans la fabrication de semi-conducteurs et les applications de recherche. Développé par OXFORD Instruments, un fournisseur leader d'instruments de haute technologie pour diverses industries, Plasmalab 80 Plus est reconnu pour ses performances supérieures, sa fiabilité et sa polyvalence dans la manipulation d'un large éventail de matériaux et de substrats. Au cœur du système OXFORD Plasmalab 80 Plus se trouve sa technologie avancée de source de plasma, qui génère un environnement plasma hautement réactif idéal pour les processus de gravure et de cueillette. L'unité utilise une combinaison d'énergie RF (radiofréquence) et hyperfréquence pour créer une décharge plasma contrôlée qui se décompose efficacement et élimine le matériau de la surface des substrats avec une grande précision et uniformité. La source de plasma est équipée de capacités sophistiquées d'adaptation d'impédance et d'accord pour maintenir des conditions plasmatiques stables et optimiser les performances du processus. Plasmalab 80 Plus dispose d'une grande chambre de procédé avec une alimentation variable qui permet aux utilisateurs d'adapter la densité et la distribution d'énergie du plasma en fonction des exigences spécifiques du procédé. La machine offre une large gamme d'options d'injection de gaz, y compris des gaz réactifs tels que l'oxygène, le fluor et le chlore, ainsi que des gaz inertes tels que l'argon et l'hélium, permettant d'effectuer un ensemble varié de processus de gravure et de cueillette avec un contrôle précis des vitesses de gravure, de la sélectivité et des caractéristiques de profil. En ce qui concerne la manipulation des substrats et le contrôle des processus, OXFORD Plasmalab 80 Plus est équipé d'un étage d'échantillons polyvalent capable d'accueillir différents types et tailles de substrats, y compris des plaquettes, des photomasques et des écrans plats. L'outil est conçu pour un fonctionnement automatisé avec des interfaces logicielles intuitives qui permettent aux utilisateurs de programmer et de surveiller les paramètres de processus en temps réel, assurant des résultats reproductibles et cohérents sur plusieurs opérations de traitement. La sécurité et la fiabilité sont des considérations primordiales dans la conception de l'actif Plasmalab 80 Plus, avec des fonctionnalités intégrées telles que les mécanismes d'interception, la surveillance du débit de gaz et les capteurs de pression sous vide pour assurer un fonctionnement sûr et efficace. Le modèle est également équipé d'outils de diagnostic avancés et de capacités de surveillance en temps réel pour détecter et répondre à toute anomalie ou déviation dans les conditions de processus, minimisant les temps d'arrêt et optimisant la productivité. Dans l'ensemble, OXFORD Plasmalab 80 Plus est un équipement de pointe de graveur/asher qui représente le sommet de la technologie de traitement du plasma pour la fabrication de semi-conducteurs et les applications de recherche. Grâce à sa technologie de pointe de sources de plasma, à ses capacités flexibles de contrôle des processus et à son design robuste, Plasmalab 80 Plus offre des performances inégalées et une polyvalence pour les processus de gravure et d'ashing, ce qui en fait un outil indispensable pour les chercheurs et les fabricants qui cherchent à obtenir la plus grande précision et la plus grande qualité dans la fabrication de dispositifs.
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