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Plasmalab 80 Plus
PECVD System Gases: SiH4, NH3, N2O, N2, CF4 2005 vintage.
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Plasmalab 80 Plus
PECVD System, 4"-6" Deposition: SiO2 Dep, SiH4 at 300°C No burner gas abatement EDWARDS E2M80 Vacuum
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Plasmalab 80 Plus
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) System, 8" Diameter electrode: 460 mm, 4"-12" Cham
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Plasmalab 80 Plus
Reactive Ion Etcher (RIE) / PECVD Systems, parts system.
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Plasmalab 80 Plus
Reactive ion etch system With LEYBOLD 30324T vacuum pump Software not included Voltage: 208V.
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Plasmalab 80 Plus
Reactive Ion Etcher (RIE) ATP400 HPC Pump RFX600A Generator PC Operating system: Windows 11.
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Plasmalab 80 Plus
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) system.
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