Occasion OXFORD Plasmalab 80 Plus #293698011 à vendre en France
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ID: 293698011
Taille de la plaquette: 4"-6"
Style Vintage: 1998
PECVD System, 4"-6"
Deposition: SiNx, SiO2, SiH4 and Si at 300°C
EDWARDS E2M80 Vacuum pump
Mass Flow Controller (MFC)
RF Generator
Burner gas abatement
PC Controller
1998 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plus est un équipement de graveur/asher très avancé conçu pour un traitement plasma précis et efficace dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et les applications de recherche. Ce système est connu pour sa polyvalence, sa flexibilité et sa fiabilité dans la production de résultats de haute qualité dans les processus de gravure plasma, d'ashing et de modification de surface. Plasmalab 80 Plus est équipé d'un large éventail de caractéristiques et de capacités qui le rendent adapté à une variété de matériaux et d'applications. Il est capable de manipuler des substrats de différentes tailles et matériaux, y compris le silicium, l'arséniure de gallium, le verre et la céramique. L'unité offre à la fois des modes de gravure ionique réactive (RIE) et des modes de gravure par plasma inductif (ICP), permettant aux utilisateurs de choisir le procédé le plus adapté à leurs besoins spécifiques. Une des caractéristiques clés d'OXFORD Plasmalab 80 Plus est ses capacités avancées de contrôle des processus. La machine est équipée d'un puissant générateur RF qui permet un contrôle précis des paramètres plasmatiques tels que la puissance, la pression et les débits de gaz. Cela permet aux utilisateurs d'optimiser les conditions de processus pour une gravure maximale ou une ashing efficacité tout en assurant l'uniformité et la répétabilité entre les lots. Plasmalab 80 Plus dispose également d'un outil polyvalent de manutention des gaz qui permet l'utilisation d'une large gamme de gaz de procédé, y compris l'oxygène, le fluor, le chlore et l'argon, entre autres. Cela permet aux utilisateurs de personnaliser la chimie du plasma pour obtenir des résultats spécifiques de gravure ou d'ashing, tels qu'une haute sélectivité, une gravure anisotrope, ou un nettoyage plasma isotrope. En plus de ses capacités avancées de contrôle des processus et de manutention des gaz, OXFORD Plasmalab 80 Plus est équipé d'un outil de détection fin sophistiqué qui permet de surveiller en temps réel le processus de gravure ou d'ashing. Ce modèle utilise la spectroscopie optique d'émission (OES) pour détecter la présence d'espèces chimiques spécifiques dans le plasma, ce qui permet aux utilisateurs de déterminer avec précision le point final du processus et d'éviter les surgravures ou les sous-gravures. Plasmalab 80 Plus est conçu pour faciliter l'utilisation et la maintenance, avec une interface conviviale qui permet un fonctionnement intuitif de l'équipement. Le système est également équipé de routines de nettoyage automatisées et d'outils de diagnostic qui aident à assurer la fiabilité et les performances à long terme de l'unité. Dans l'ensemble, OXFORD Plasmalab 80 Plus est une machine de pointe qui offre une polyvalence, une précision et une efficacité inégalées dans le traitement du plasma. Qu'il soit utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la recherche ou d'autres applications, cet outil est sûr de fournir des résultats de haute qualité et de répondre aux exigences exigeantes des technologies modernes de traitement du plasma.
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