Occasion OXFORD Plasmalab 80 #293647911 à vendre en France

Fabricant
OXFORD
Modèle
Plasmalab 80
ID: 293647911
Reactive Ion Etcher (RIE) Gases: RIE Chamber: Ar, O2, SiCl4, H2, SF6, CF4 CVD Chamber: SiH4, N2O, NH3, SF6, N2.
OXFORD Plasmalab 80 est un équipement aspirateur haute performance fiable idéal pour une large gamme d'applications en laboratoire. Ce système peut graver ou ashe des échantillons simples ou multicouches sur un ou deux substrats à la fois. Il offre également un large choix de gaz de travail à choisir, permettant aux utilisateurs de personnaliser leurs conditions de traitement, telles que les temps de gravure ou de cueillette, la température, la puissance et les réglages de pression, pour n'en citer que quelques-unes. Plasmalab 80 dispose d'une chambre de processus facilement accessible et d'une interface tactile intuitive pour une configuration rapide et efficace. La chambre, dont les dimensions sont d'environ 200 mm de profondeur x 400 mm de largeur x 150 mm de hauteur, peut être utilisée en toute sécurité sous vide ou sous pression. La chambre comporte également une cathode RF montée sur le dessus et une bobine d'induction planaire permettant une répartition optimale de la puissance de gravure et d'aspiration. La chambre est en outre équipée d'une entrée de gaz, d'un échappement de gaz et d'une vanne de vide qui peuvent être commandés individuellement pour des réglages précis. OXFORD Plasmalab 80 dispose d'un écran tactile couleur haute résolution pour des paramètres faciles et une interface utilisateur intuitive. Cette unité supporte un large éventail de conditions de procédé, allant de la gravure/cendrage planaire DC ou RF à la gravure plasma couplée inductivement ou au recuit à haute température. En outre, Plasmalab 80 est équipé d'une sonde Langmuir pour le diagnostic et le contrôle de la température de la chambre de procédé. OXFORD Plasmalab 80 est une machine très précise qui peut être préréglée pour répéter le même processus de gravure et d'ashing, permettant aux utilisateurs d'obtenir des résultats reproductibles avec une entrée minimale. De plus, l'outil comprend un actif de nettoyage inertiel des gaz pour réduire la pollution par les nano-particules et un logiciel de générateur de motifs extensible pour modifier facilement les motifs. Dans l'ensemble, Plasmalab 80 est un modèle de vide graveur/asher simple et fiable, idéal pour les tâches de recherche et développement, de gravure, de cendrage et de recuit. C'est un excellent choix pour les laboratoires à la recherche d'un équipement fiable et performant qui facilite un traitement rapide et des résultats reproductibles.
Il n'y a pas encore de critiques