Occasion STS / CPX Multiplex ICP #9185200 à vendre en France
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ID: 9185200
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
Dry etcher, 8"
BOSCH Process
Handler
Chiller
Turbo pump
HF Generator
Carousel vacuum load lock
With ICP SR / HR process chamber
Pumps: No
EPD: No
Lower electrode PSU: No LF
Wafer flat size: Other
Clamp: WTC
Gas box: Mini
ASE Requirement: Switched licence
Voltage: 400V
Gases:
C4F8 100 sccm
O2 100 sccm
Ar 100 sccm
He 100 sccm
SF6 100 sccm
Multiplex ICP process chamber (MESC)
ICP 240BF Source
RF Supply: 1 kW (13.56 MHz)
Matching unit for ICP source
Generator: 5 kW
RF Supply: 300 / 30 Watt (13.56 MHz)
Matching unit for lower electrode
Electrode temperature control: +5 to +40°C
Mechanical wafer clamping electrode (Pin lift)
With backside cooling
LEYBOLD Turbo pump MAC 2000
Standalone VDU
Keyboard
Mouse
SOI Kit: No
CE Marked
1999 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP est un équipement avancé de graveur/asher qui utilise plusieurs processus individuels pour obtenir une microfabrication de haute précision des pièces métalliques. Le système est composé d'une source de plasma à couplage inductif (ICP) et d'un générateur RF multiplexé, qui est capable de tirer plusieurs sources ICP en séquence. La source ICP est configurée de telle sorte que le générateur RF se déclenche en quatre cycles synchronisés, fournissant un flux continu de plasma de forte puissance sur une large surface dans la chambre. La source du PCI a une large gamme de fréquences, ce qui permet un contrôle complexe des motifs et des taux de gravure de surface plus précis. La source du PIC est également capable de graver des métaux plus profonds et des surfaces revêtues avec un minimum de distorsion et un rendement élevé. Le générateur RF multiplexé contient plusieurs canaux capables chacun de délivrer des impulsions de forte puissance à la source ICP. Ceci fournit un environnement de gravure flexible ainsi que des taux de gravure extrêmement uniformes. Le générateur RF multiplexé permet également une synchronisation précise entre les sources du PCI, ce qui leur permet de tirer en synchronisation et de maximiser le débit du processus. STS Multiplex ICP gravure/unité de cendres a été montré pour fournir un dépôt de film de haute qualité et gravure de divers substrats métalliques, y compris le cuivre, l'aluminium, le nickel et l'acier. La machine est également capable de graver des motifs complexes et des surfaces de haute précision. En outre, l'outil peut également être utilisé pour fabriquer des composants imprimés en 3D à l'aide de particules de poudre métallique ou de films fragmentés. CPX Multiplex ICP est un actif de graveur/asher polyvalent et fiable capable de fournir des résultats de haute qualité, cohérents et bien contrôlés pour une variété de processus. C'est une solution fiable pour les applications de microfabrication et d'impression 3D, et peut être utilisée pour la gravure de haute précision des métaux et d'autres matériaux.
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