Occasion STS / CPX Multiplex ICP #9243850 à vendre en France

STS/CPX Multiplex ICP est un équipement de pointe conçu par Oxford Instruments pour la fabrication de semi-conducteurs et les applications en laboratoire. Le système est construit avec un réacteur de gravure propriétaire et les contrôles informatiques et logiciels associés. L'unité STS Multiplex ICP offre une gravure plus rapide que les autres systèmes de gravure sur le marché, tout en maintenant le contrôle nécessaire et l'uniformité des profils et des caractéristiques de gravure. La machine CPX Multiplex ICP est équipée de plasmas induits par micro-ondes (MIP). La technologie MIP est prouvée pour avoir la gravure la plus uniforme de tous les systèmes de gravure. L'outil MIP produit des profils et des caractéristiques de substrat extrêmement uniformes avec un bombardement ionique extrêmement faible et une répétabilité élevée. L'actif est conçu pour accueillir une alimentation EF ou DC qui permet une plus grande flexibilité dans le processus de demande. Le modèle PCI multiplex comprend également un logiciel qui permet à un utilisateur d'automatiser le processus de gravure. Le logiciel offre une grande variété de paramètres qui peuvent être contrôlés dans le processus de gravure, y compris le temps de gravure, la pression, la température et le débit. De plus, l'équipement utilise une vanne d'arrêt qui assure que la gravure s'arrête lorsque le processus est terminé. Cela permet un contrôle précis du processus de gravure et un meilleur rendement du produit. STS/CPX Multiplex ICP est conçu pour être utilisé dans diverses applications de laboratoire et de production, telles que la gravure d'isolations de tranchées, le laminage, la métallisation en ligne fine, et par gravure, entre autres. Il offre également une option de glovebox pour traiter les gaz corrosifs. STS Multiplex ICP est un système très polyvalent qui peut être adapté aux exigences spécifiques de gravure et de dépôt. L'unité offre constamment des profils de gravure de haute qualité avec un bombardement ionique faible, assurant une performance optimale de l'appareil. Grâce aux technologies numériques et aux logiciels les plus récents, les utilisateurs peuvent programmer un processus pour fonctionner sans surveillance, ce qui facilite la gravure de substrats de haute qualité avec une homogénéité et une répétabilité exceptionnelles.