Occasion STS / CPX Multiplex ICP #9316178 à vendre en France
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Vendu
ID: 9316178
Etcher
Maximum powers: 600 W and 3000 W
Gas lines: C4F8, SF6, O2 and Ar
Frequency: 13.56 MHz ICP (Source) and Platen power sources (Bias).
STS/CPX Multiplex ICP (Inductively Coupled Plasma) Etch/Asher est un équipement hautement conçu pour la production en série de composants microélectroniques. Le système est capable de traiter jusqu'à 10 plaquettes par course, avec un temps de débit de 300 secondes (5 minutes) par course. L'unité utilise la technologie ICP bien connue et très respectée qui fournit une gravure simple, rapide et peu coûteuse de divers métaux et diélectriques. STS Multiplex ICP est un outil rentable fournissant une gravure très uniforme sur l'ensemble de la plaquette par opposition aux solutions traditionnelles qui nécessitent un traitement supplémentaire pour maintenir le même niveau de précision. Les solutions de gravure aqueuse traditionnelles nécessitent souvent une installation de gravure à grande échelle qui peut être à la fois coûteuse et longue, tandis que la machine CPX Multiplex ICP fournit une grande précision pour les mêmes coûts et les mêmes besoins en temps. L'outil du PCI utilise un générateur RF pour produire un plasma à haute fréquence ou une phase gazeuse chargée contenant des particules microscopiques et de taille sub-micron capables de graver et d'aspirer différents types de matériaux. L'ICP etcher est capable de graver/ashing < 100nm caractéristiques à > 10 µm précision. L'actif est également capable d'effectuer plusieurs gravures et cendres, permettant de graver et de cendrer plusieurs couches de matériaux dans le même temps. Les plaquettes sont préchargées, chargées dans la chambre, et les processus de gravure et de cendres commencent automatiquement. Une fois complétées, les plaquettes sont déchargées. De plus, le modèle peut être intégré à des systèmes en amont ou en aval, afin d'assurer des paramètres de processus plus cohérents. Cela réduit encore le temps de cycle du processus de gravure, par rapport aux systèmes de gravure traditionnels qui nécessitent une configuration individuelle de chaque processus avant le démarrage. L'équipement est non seulement économique mais aussi simple à utiliser, permettant aux utilisateurs de tout niveau d'expérience de maîtriser rapidement le processus de gravure/cendres. La polyvalence du système permet de l'utiliser pour diverses applications, dont la gravure en ligne fine, la passivation, le polissage, les trous effilés, la gravure isotrope, etc. Dans l'ensemble, le PCI multiplex est une unité économique capable de fournir des résultats très uniformes et précis. La machine utilise une technologie ICP avancée et bien connue pour fournir un processus de gravure et de cueillette simple, rapide et fiable. En outre, la polyvalence de l'outil le rend adapté à de multiples applications, permettant aux utilisateurs de créer des fonctionnalités précises, fines et plus encore.
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