Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293647205 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H est un équipement de graveur/asher spécialement conçu pour le traitement des semi-conducteurs. TEL Formula-1S-H est un appareil graveur/asher de type à chauffage direct équipé d'un système laser TEL d'origine Pulsed CO2. Le laser haute puissance et très efficace garantit que la vitesse de gravure est élevée et les dommages cristallins sont minimes. TOKYO ELECTRON Formula-1S-H dispose également d'un système de régulation de température de haute précision, qui non seulement assure le dépôt uniforme de couches minces sur le substrat, mais élimine également le transfert thermique non uniforme et assure un résultat de gravure cohérent. Formula-1S-H dispose également d'un contrôle avancé de la température et de la conception de la chambre, assurant des processus de recuit et de gravure précis et cohérents. La température des procédés de recuit et de gravure peut être ajustée avec précision et la conception de la chambre minimise le transfert thermique, ce qui permet des procédés de recuit et de gravure efficaces. La plage de température peut être facilement ajustée et la hauteur de la chambre peut être ajustée à la hauteur de gravure optimale. TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H dispose également d'un système de laser à CO2 dédié avec une gamme de paramètres laser et des réglages de puissance laser, permettant aux utilisateurs d'optimiser le processus pour leur application souhaitée. Les paramètres laser sont réglables en fonction de l'application, ce qui permet aux utilisateurs d'obtenir des caractéristiques de gravure précises. Les réglages laser réglables garantissent que le processus de gravure peut être optimisé pour obtenir un profil de profondeur et de profondeur de gravure précis. TEL Formula-1S-H dispose également d'une technologie brevetée de croissance de couches CVD, permettant la formation précise de couches minces. La technologie de croissance de couche CVD est un processus en une étape qui réduit le temps de traitement, augmente le débit et réduit le nombre d'étapes de processus. La technologie de croissance des couches CVD est compatible avec de nombreux matériaux différents tels que les composés III-V, le niobate de lithium et les matériaux de nitrure de bore. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON Formula-1S-H est un équipement avancé de graveur/asher spécialement conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Le laser haute puissance et très efficace assure une vitesse de gravure élevée et offre un contrôle précis de la température et la conception de la chambre, permettant aux utilisateurs d'obtenir un dépôt uniforme de couches minces. Les réglages laser réglables garantissent que le processus de gravure peut être optimisé pour obtenir des caractéristiques de gravure précises et la technologie de croissance de couche CVD fournit un traitement en une étape pour réduire le temps de traitement et augmenter le débit.