Occasion ASM IBE 139 #9069578 à vendre en France

ASM IBE 139 Mask & Wafer Inspection Equipment est un système d'imagerie haute performance conçu pour réaliser des applications d'inspection en ligne en temps réel. ASM IBE139 s'appuie sur l'expertise de l'ASM en matière de détection des défauts et de métrologie globale pour détecter et mesurer avec précision les défauts des caractéristiques critiques non standard du masque lors de la production en ligne. L'unité est équipée de fonctions avancées de cartographie et de détection de défauts, y compris des vues en coupe 3D 6 sigma et des analyses paramétriques, permettant le suivi des paramètres clés de production. La machine dispose également d'un outil de contrôle visuel intégré, capable de détecter de très petites caractéristiques telles que le microchargement et les défauts multicouches. IBE 139 dispose d'une gamme de capteurs d'imagerie numérique spécialisés qui capturent rapidement des images de différents rapports d'aspect et de champ de vision pour détecter même les plus petites erreurs rapidement et précisément, en réflexion. L'actif est également capable de mesurer les variations dans un ensemble de différents matériaux et modèles qui peuvent être utilisés, trouvés et analysés. IBE139 Wafer Inspection Model est spécialement conçu pour permettre un contrôle fin pendant les étapes d'essai et d'erreur de la mise en forme, en veillant à ce que les produits délivrés répondent aux critères de conception souhaités. Il utilise des techniques avancées de microscopie numérique pour surveiller chaque passage de traitement de masque, l'équipement est capable de détecter des masques et des plaquettes qui s'écartent de la conception souhaitée. Le système est conçu pour détecter et mesurer avec précision les défauts minuscules, y compris, sans s'y limiter, la contamination, les dommages causés par les gravures, les concentrations de gaz non contrôlées, les défauts des photomasques et la contamination sous la couche de photomasque ou de photorésist. L'unité utilise des techniques statistiques de contrôle de processus pour mesurer des caractéristiques de masque non standard. L'optique fournit une source lumineuse blanche/claire pour l'enregistrement de la lumière et des sources lumineuses laser pour l'annulation de l'ombre pour une large gamme de pièces d'échantillon. ASM IBE 139 Wafer Inspection Machine supporte également l'imagerie à focalisation différentielle (DFI), capable de détecter la propreté de surface et la déformation. ASM IBE139 Mask & Wafer Inspection Tool est conçu pour fournir aux opérateurs un moyen facile et efficace d'inspecter une variété de pièces critiques. Avec son interface conviviale, son imagerie haute résolution et ses capacités de métrologie supérieures, IBE 139 est parmi les meilleurs disponibles pour les exigences d'inspection en ligne de haute précision.