Occasion ASM IBE 139 #9396619 à vendre en France

ASM IBE 139 Mask and Wafer Inspection Equipment est un outil de pointe conçu pour permettre aux fabricants de semi-conducteurs de détecter et d'identifier rapidement et avec précision les défauts de leurs produits. Les techniques spécialisées de microscopie optique et électronique du système permettent d'observer des détails géométriques sur des niveaux qui ne sont pas visibles à l'œil nu, et une tâche unique d'identification des défauts basée sur l'image permet une détection rapide automatisée des défauts dans les photomasques et les plaquettes. L'unité est composée de deux composants principaux : l'étage d'imagerie optique et l'étage d'imagerie électronique. L'étage d'imagerie optique fournit des capacités d'éclairage, d'imagerie et de détection à l'aide d'un appareil photo numérique. Il est capable d'agrandir les caractéristiques optiques jusqu'à 1000x, permettant l'imagerie haute résolution nécessaire pour identifier les défauts. De plus, l'étage d'imagerie optique est équipé d'un capteur de caméra numérique couleur complète avec des capacités CCD monochromes. Cela permet à la machine de capturer des images rapidement et précisément en couleur et en monochrome. L'étage d'imagerie électronique est composé d'un outil innovant d'inspection des faisceaux d'électrons (EBIS) et d'un microscope électronique à balayage (SEM) avec des composants associés. L'EBIS est utilisé pour capturer les images défectueuses et générer des micrographies pour l'identification des défauts. Il est équipé d'un actif de balayage par faisceau d'électrons (EBS) et d'un processus de classification des défauts entièrement automatisé. Le modèle est capable d'acquérir des images à partir de zones extrêmement petites, mesurant jusqu'à quelques nanomètres, permettant de détecter avec précision même les plus petits défauts. Le SEM, en revanche, fournit des images optiques d'électrons avec des grossissements jusqu'à 50.000x. Il est équipé d'un équipement automatisé de reconnaissance des défauts capable d'identifier un large éventail de défauts, des caractéristiques de surface et de sous-surface aux erreurs de direction de ligne et aux défauts ouverts/courts. Par ailleurs, le système ASM IBE139 Mask et Wafer Inspection System est également compatible avec une gamme de logiciels d'analyse de données, tels que le bien connu de l'Entreprise J. Cela permet aux utilisateurs de combiner rapidement et facilement les images des étages d'imagerie optique et électronique et de les stocker dans une base de données pour un accès et une analyse futurs. ASM fournit également une base de données en ligne de matériaux de substrat communs et leurs paramètres optiques correspondants, ce qui permet aux utilisateurs d'identifier facilement les paramètres appropriés pour chaque échantillon. IBE 139 Masque et Wafer Inspection Unit est un outil efficace et fiable, conçu pour faciliter la détection et l'analyse des défauts des produits semi-conducteurs. Ses capacités d'imagerie haute résolution et ses systèmes automatisés d'identification des défauts permettent aux utilisateurs d'identifier et de classer rapidement et avec précision les défauts. En outre, sa compatibilité avec des logiciels tiers, ainsi que sa vaste base de données sur les substrats, en font un atout précieux pour tout fabricant de semi-conducteurs.