Occasion ASM TLB 139 #9299727 à vendre en France
URL copiée avec succès !
L'ASM TLB 139 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Le système utilise des outils avancés d'inspection de photomasques et de plaquettes pour détecter les défauts dans le masque et la plaquette pour un rendement plus élevé. TLB 139 est équipé d'une capacité de segmentation active automatisée pour la détection intelligente des défauts. Cette fonctionnalité permet une identification très précise des défauts avec des classifications exactes, allant des défauts globaux, défauts de bord, défauts ocre, défauts de Tan, et la rugosité de bord de ligne. L'unité est également équipée d'une pince optique qui permet à la machine de mesurer des dispositifs, des classifications de défauts et d'autres paramètres sur de multiples champs d'inspection. L'ASM TLB 139 utilise un outil de détection de motif de masque optiquement amélioré. Cet atout utilise la technologie d'imagerie ultra haute résolution pour détecter et isoler les défauts sur les masques et les plaquettes, même ceux qui sont trop petits pour être détectés à l'œil nu. Il utilise également des algorithmes d'amélioration du contraste qui permettent au modèle de découvrir et d'isoler les défauts. TLB 139 a une foule de fonctionnalités supplémentaires, telles que son amélioration numérique de pixel, véritable affichage de couleur, processus de fusion de données, haute résolution et ultra-haute résolution capture, et les capacités avancées de mesure de front d'onde. Ensemble, ces caractéristiques permettent à l'appareil de fournir aux utilisateurs un degré élevé de précision. L'ASM TLB 139 est également équipée d'un flux de travail entièrement automatisé. Cela permet un fonctionnement sans surveillance de l'équipement et augmente encore l'efficacité. Le système a une interface utilisateur intuitive et est compatible avec plusieurs programmes logiciels, rendant le fonctionnement de l'unité facile à utiliser. TLB 139 est un outil puissant pour inspecter les masques et les plaquettes avec des résultats très précis. Ses capacités de segmentation active avancées et sa machine de détection de motifs de masques optiquement améliorés permettent d'identifier et d'isoler les défauts, même ceux qui sont trop petits pour être détectés à l'œil nu. Son flux de travail avancé et son interface utilisateur intuitive le rendent facile à utiliser et d'une grande valeur pour la production de semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques