SII NANOTECHNOLOGY / SEIKO (Inspection des masques et des wafers) d'occasion à vendre

SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO est un fabricant leader d'équipements d'inspection de masques et de plaquettes, offrant une gamme de solutions avancées pour l'industrie des semi-conducteurs. Leurs systèmes d'inspection sont conçus pour détecter avec précision et efficacité les défauts des masques et des plaquettes pendant le processus de fabrication. Le SAI 9600S est l'un de leurs modèles phares, fournissant une imagerie haute résolution et des algorithmes sophistiqués pour la détection complète des défauts. Il offre une sensibilité supérieure aux défauts et de faibles taux de faux positifs, assurant une production de haute qualité. Le XV-300DB est un autre modèle populaire, connu pour ses capacités avancées de traitement d'image et la fonctionnalité de balayage à grande vitesse. Il est largement utilisé pour l'inspection des plaquettes à motifs et des plaquettes nues. L'un des principaux avantages des unités d'inspection de SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO est leur capacité à détecter différents types de défauts, y compris les particules, les trous, les rayures et les écarts de motifs, avec une grande précision et précision. Ces machines sont équipées d'une optique de pointe, de techniques d'éclairage et d'algorithmes avancés pour atteindre le plus haut niveau de détection de défauts. La série Xvision est une autre offre notable de SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO, spécialement conçue pour l'inspection des masques EUV (Extreme Ultraviolet). Ces outils fournissent une détection précise des défauts, intégrant une technologie d'imagerie de pointe pour relever les défis uniques associés à la lithographie EUV. Dans l'ensemble, les actifs d'inspection des masques et plaquettes SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO offrent des capacités de pointe dans l'industrie, assurant la production de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité. Avec une gamme de modèles comme les SAI 9600S, XV-300DB et Xvision, ils répondent à divers besoins d'inspection avec des fonctionnalités avancées et la détection précise des défauts.