Occasion SII NANOTECHNOLOGY / SEIKO XVision 200TB #9240326 à vendre en France
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Vendu
ID: 9240326
Defect inspection system
Triple beam
FIB:
Resolution: 4 nm at 30 kV
Acceleration voltage: 0.5 ~ 30 kV
Maximum probe current: 90 nA
Maximum probe current density: 45A/cm²
Argon:
Resolution: 3 nm at 5 kV
Acceleration voltage: 1 ~ 30 kV
SEM:
Acceleration voltage: 0.5 ~ 1 kV
Maximum beam current: 10 nA
EDS Specification:
AZTec Energy Standard micro-analysis system
With X-MaxN 80 large area analytical silicon drift detector
Hardware includes:
X-MaxN 80 SDD Detector with PentaFET precision
Active area: 80 mm²
Resolution guaranteed on Mn K - 127eV at 50,000 cps
SATW Windows for detection of elements from beryllium
MicsF+ Microscope image capture system
X-Stream 2 Micro-analytical pulse processor
PC
Operating system: Windows 7
Widescreen LCD display, 23"
Aperture: 1
Accelerating voltage: 3 kV
Beam current: ~210 pA
(3) Separate beams:
High resolution FE-SEM imaging
Precision FIB milling
Ultra high resolution TEM imaging:
Low energy Ar polishing to minimize sample damage
FIB-SEM-Ar beams:
Coincident eliminating need for sample movement between beams
FE-SEM Monitoring.
Le masque et l'équipement d'inspection des plaquettes SEIKO X Vision 200TB est une technologie de pointe avec une haute résolution, un débit élevé et une grande précision. Ce système est idéal pour les applications avancées de microélectronique, médical et écran plat. L'unité SII NANOTECHNOLOGY X Vision 200TB dispose d'une caméra CCD à résolution de 4 000 pixels et d'une machine d'éclairage de haute puissance intégrée. Cela permet une capture d'image haute définition dans toutes les directions de travail avec une imagerie de haute qualité de tous les défauts et autres caractéristiques. L'outil dispose également de la technologie exclusive SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO auto focus qui fournit des images précises et haute définition rapidement et efficacement. Cela permet aux utilisateurs de réduire les coûts et d'améliorer la qualité de leurs masques et plaquettes en effectuant des inspections et des rejets sur place. L'outil d'inspection dispose également d'une conception ergonomique et d'une interface utilisateur intuitive. Cela permet des flux de travail efficaces et pratiques. Le modèle dispose d'un puissant équipement de traitement d'image qui détecte et corrige automatiquement les défauts des masques et des plaquettes. En outre, il dispose d'une bibliothèque avancée de défauts qui contient une large gamme de types de défauts pour une détection et un regroupement faciles. Le masque et le système d'inspection des plaquettes SEIKO X Vision 200TB sont conçus pour une efficacité maximale avec son logiciel facile à utiliser et ses commandes conviviales. Cette unité offre des performances élevées et une gamme d'outils puissants pour l'analyse des données, le reporting et l'archivage. Ses capacités avancées de classification des défauts le rendent idéal pour l'extraction de données et la catégorisation des défauts. La machine est équipée d'une sélection d'outils personnalisables d'amélioration de l'image pour améliorer la visibilité des motifs. Il comprend également des rapports imprimés et des capacités d'archivage numérique pour enregistrer les résultats. De plus, les fonctions d'analyse de données personnalisables de SII NANOTECHNOLOGY X Vision 200TB permettent à l'utilisateur d'analyser et d'archiver les données rapidement et avec précision. Dans l'ensemble, le masque et l'outil d'inspection de plaquettes SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO X Vision 200TB offrent une qualité et une précision inégalées pour une assurance et une inspection fiables des circuits. Cet actif fournit une solution rentable pour répondre aux tolérances strictes des procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs médicaux. Avec sa haute résolution, son débit et sa précision, le modèle est parfait pour toutes les applications complexes d'inspection des masques et des plaquettes.
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