Occasion ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M1 #293657910 à vendre en France

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M1 est un système de spin de photorésistance avancé conçu pour le dépôt précis et précis de photorésist à couches minces sur des substrats semi-conducteurs. Cette unité de rotation dispose d'un grand récipient liquide pour photorésist en vrac et d'une machine de contrôle à base de carte permettant aux utilisateurs de produire rapidement et avec précision des couches minces de photorésist sur des substrats sans aucun travail manuel ou erreur. ASSI SV-702 M1 peut accueillir jusqu'à 8 substrats simultanément sur un mandrin en céramique, offrant un dépôt de couches minces reproductible et fiable avec une grande variété de milieux photorésistants couramment utilisés. Le moteur et le matériel de support sont conçus et testés pour assurer un fonctionnement efficace et à faible bruit, avec des réglages de vitesse multi-variables, disponibles pour chaque substrat, permettant une épaisseur de revêtement précise et des spinnings uniformes. L'outil de dépôt photorésist est livré avec une gamme d'outils périphériques pour aider au dépôt de couche mince de précision. Un contrôle de température soigneusement calibré assure une viscosité photorésist exacte pour les performances souhaitées du substrat. Un actif de séchage à la vapeur et au substrat thermiquement régulé peut fournir des temps de séchage optimisés pour une variété d'applications. Le modèle comprend également un équipement précis d'écoulement d'air de l'aiguille qui aide à obtenir des vitesses de rotation plus élevées et une uniformité améliorée du film. Le logiciel de métrologie automatisé est pré-installé, ce qui permet aux utilisateurs de surveiller rapidement et facilement l'épaisseur du film et d'autres paramètres clés pendant le dépôt de résines photosensibles. ADVANCED SPIN System INC SV-702 M1 fournit également un support d'interconnexion de sécurité avec une gamme de paramètres définis par l'utilisateur, avertissant les utilisateurs de toute utilisation inappropriée potentielle ou des conditions potentiellement dangereuses. L'interface graphique conviviale facilite la programmation et la surveillance des différents paramètres de dépôt de couches minces tels que la vitesse de rotation, la température et le débit d'air. De plus, des jigs d'alignement amovibles simplifient le placement du substrat, améliorant ainsi la précision et la précision de l'ensemble de l'unité de rotation. Pour un traitement supérieur des substrats, SV-702 M1 est une machine à tourner photorésist polyvalente et fiable, qui a été conçue pour assurer le plus haut niveau de précision et de précision tout en assurant un fonctionnement sûr et un dépôt de film fiable. Avec cet outil, les utilisateurs peuvent facilement produire des photorésist à couches minces avec des performances répétables sur une variété de substrats, sans aucun travail manuel.