Occasion ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2 #9155954 à vendre en France

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M2 photoresist system est un outil de microfabrication de nouvelle génération conçu pour le traitement lithographique de substrats à l'échelle nanométrique. Il utilise une technique de « spin-on-glass » douce pour créer des couches photorésistantes minces, sensibles à la lumière, d'épaisseurs variables sur les surfaces. ASSI SV-702 M2 est un boîtier complet de haute précision qui permet aux utilisateurs de contrôler avec précision l'épaisseur, la forme et la taille des couches de résine photosensible sur un substrat donné. Pour ce faire, on utilise une filière à vitesse variable, une vitesse de dépôt ajustable et une chambre d'exposition précise. Ensemble, ils permettent aux utilisateurs de modéliser les caractéristiques nanométriques sur n'importe quel matériau. L'unité est faite de matériaux de qualité supérieure, et son matériel et son logiciel propriétaires ont été conçus pour assurer la cohérence et la répétabilité des caractéristiques de surface du substrat. Le logiciel permet également aux utilisateurs de surveiller en permanence l'épaisseur de la résine photosensible déposée avec la fonction d'auto-inspection automatique. Le support filable de l'unité est conçu pour aligner avec précision le substrat pour le traitement de la couche de spin sur le verre. Ceci assure un revêtement photorésist uniforme sur toute la surface, indépendamment de la taille et de la forme. De plus, ADVANCED SPIN UNIT INC SV-702 M2 est équipé d'une bibliothèque de recettes puissantes et extensibles, ce qui facilite l'adaptation rapide du revêtement de la résine photosensible pour des substrats spécifiques. En outre, l'unité est conçue pour être compatible avec une gamme de liquides et d'autres matériaux, permettant un dépôt précis de photorésists et d'autres fluides de traitement sur les surfaces. Dans l'ensemble, SV-702 M2 est une machine photorésistante de pointe conçue pour la fabrication à l'échelle nanométrique. Grâce à ses caractéristiques avancées et à son contrôle précis, les utilisateurs peuvent obtenir des revêtements photorésistants répétables et homogènes qui sont compatibles avec une large gamme de matériaux.