Occasion ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2 #9156021 à vendre en France

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M2 est un système de revêtement photorésistant conçu pour les dernières techniques de lithographie. L'unité est conçue pour fournir une méthode très reproductible et fiable d'enrobage de broche et de développement de photorésists de film mince et épais. Il dispose d'une machine de contrôle intuitive qui le rend facile à utiliser. L'outil est composé de plusieurs composants, dont un mandrin de spin-coating, un module de distribution de photorésist, et un lecteur de plateaux intégré. Le mandrin de spin-coating permet le dépôt uniforme de la résine photosensible sur un substrat. Sa capacité de rétention va de plaquettes de 1 "ou 2" de diamètre à des plaquettes de 12 ", et les substrats peuvent être minces ou épais, rigides ou souples. Le module de distribution de photorésist est conçu pour le chargement et le déchargement rapides de photorésist, et pour la distribution précise de photorésist dans le mandrin de spin-coating. Il est également livré avec plusieurs options de réservoir pour s'adapter à différents types de photorésist. Le lecteur de plateaux intégré fournit la vitesse rapide nécessaire pour les applications à haut débit. Il utilise un contrôle de couple avancé pour garantir des résultats précis et reproductibles. Cet atout offre d'excellentes performances et une répétabilité du revêtement de broche et des opérations de développement, et il est particulièrement adapté aux applications à faible volume et à haute performance. Le modèle peut être facilement configuré pour des environnements de production manuels, semi-automatiques ou entièrement automatisés. Il est compact et facile à utiliser, et offre diverses options pour répondre aux exigences spécifiques de l'application. En outre, l'équipement est conçu avec la sécurité à l'esprit, et équipé d'une option de chaleur à retard qui permet l'élimination complète de la résine photosensible liquide avant la manipulation. ASSI SV-702 M2 est un choix idéal pour la production de lithographies photorésistantes de haute qualité et pour l'édition de photomasques. Il a été conçu pour offrir des performances, une répétabilité et une sécurité supérieures et peut être adapté aux besoins de diverses applications.