Occasion ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #293601652 à vendre en France
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ID: 293601652
Taille de la plaquette: 2"-6"
Spin Rinse Dryer (SRD), 2"-6"
Electro-polished stainless chamber
Maximum speed: 2,800 RPM
Rinse and dry time: 0-9999 sec
On-Board N2 Heater
N2 Filter
Anti-static cell
Resitivity Monitor (RM)
SDC-01 Controller
Door seal lock
Thermo sensor
Pressure switch
Human Machine Interface (HMI)
Pre-heat N2 setting
Throughput: 300-2400 Wafer an hour (2")
Uptime: >95%
Option:
Manual door
EPO Emergency off switch.
ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 est un système de résistance photosensible de pointe qui fournit une précision et une performance inégalées lors du traitement des composants critiques de la mission. Cette machine est conçue pour assurer le dépôt automatisé d'une couche ultra-mince de photorésist pouvant être précisément modélisée par photolithographie. Son moteur de filature avancé, sa fonction d'alignement intégré des plaquettes et son affichage numérique haute résolution surveillent avec précision l'application de la résine photosensible pendant le processus d'enrobage. Cette unité est équipée d'une gamme complète de sources de spires DI et DC, permettant une personnalisation complète pour répondre aux besoins exacts de chaque utilisateur. ASSI SV-702 offre une gamme de caractéristiques qui assurent un dépôt sans défaut et un revêtement photorésist. Une de ces caractéristiques est son alignement de précision de la plaquette, qui permet un positionnement précis de la résine photosensible sur la surface de la plaquette. Cette machine élimine les possibilités de désalignement accidentel et assure une application uniforme et précise de la résine photosensible sur la surface de la plaquette. L'outil dispose également d'un contrôle supérieur de la vitesse de rotation, permettant aux utilisateurs de maintenir une vitesse de rotation idéale pour une consistance de revêtement idéale. Cette caractéristique garantit que la résine photosensible est répartie précisément et uniformément sur la surface de la plaquette, ce qui permet un revêtement précis à moins d'un micron d'épaisseur. De plus, ADVANCED SPIN Asset INC SV-702 est conçu pour obtenir une uniformité supérieure dans le revêtement sur toute la surface de la plaquette. Ceci est réalisé par l'utilisation d'un moteur à double flux de rotation. Ce moteur tourne soigneusement et uniformément la résine photosensible à une vitesse optimale, tandis qu'un radiateur de précision distribue uniformément la chaleur. Ceci permet de maintenir la température de la résine photosensible à un niveau uniforme, ce qui permet une uniformité de l'épaisseur du dépôt. Le modèle offre également flexibilité et compatibilité avec une large gamme de photorésists. Cela permet aux utilisateurs de choisir sans effort la résine photosensible qui convient le mieux à leur application particulière. SV-702 est également équipé d'un affichage numérique haute résolution, permettant une plus grande précision et une meilleure visualisation de la programmation de revêtement. Dans l'ensemble, ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 est un système de photorésistance de pointe qui fournit aux utilisateurs une précision et une précision inégalées dans le traitement des composants essentiels à la mission. Ses fonctionnalités avancées, sa large compatibilité et son affichage numérique haute résolution en font la solution idéale pour le traitement des photorésistances.
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