Occasion ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #9358968 à vendre en France

Le système de photorésistance ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 est un outil révolutionnaire pour la préparation d'échantillons de mesure de haute qualité, spécialement conçus pour fonctionner avec les derniers dispositifs optoélectroniques à semi-conducteur. Cette unité utilise une technologie avancée de revêtement de spin pour permettre à l'utilisateur de déposer des couches minces de résine photosensible sur un matériau de substrat dans une large gamme d'épaisseurs avec une excellente uniformité. La machine comprend une chambre d'enrobage, un poste de distribution et un poste de post-cuisson, qui peuvent tous être intégrés à un procédé existant. La chambre d'enrobage est conçue de façon unique pour fournir un champ de rotation uniforme qui permet une répartition homogène du matériau de résistance lors de l'application. Cela permet d'améliorer l'épaisseur du film et l'uniformité par rapport aux autres procédés de revêtement de spin. La chambre est constituée d'une chambre à deux étages, d'un porte-substrat et d'une sous-chambre à vide. La chambre dispose de soupapes de commande automatisées qui permettent des réglages précis de la vitesse de rotation et du vide pour des résultats optimaux. Le poste de distribution comprend une pompe multi-têtes qui est utilisée pour distribuer des quantités précises de matériau résistant sur le substrat. Cette configuration permet une surveillance et un contrôle précis du processus, tout en réduisant la possibilité de variation de l'épaisseur de résistance. La pompe peut traiter une large gamme de viscosités et de volumes, permettant l'application de résistances aux rayons UV et e-faisceau. La station de post-cuisson est conçue pour fournir un outil automatisé et uniforme de gestion de la température post-cuisson. Cette station maintient des réglages de température précis pour le traitement post-cuisson du substrat, permettant une résistance uniforme à l'épaisseur et à l'homogénéité du film sur un lot de dispositifs. La station de post-cuisson utilise un taux de transfert de chaleur élevé afin d'assurer un refroidissement rapide des échantillons une fois le processus de post-cuisson terminé. L'actif photorésist ASSI SV-702 est un outil puissant pour la fabrication moderne de dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques. Le modèle permet l'application de photorésist avec une excellente uniformité et précision, tandis que la station de post-cuisson permet de résister uniformément épaisseur et homogénéité. Cet équipement est un outil fiable et polyvalent pour la préparation de tout spécimen de mesure de précision.