Occasion ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #9397636 à vendre en France

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 Photoresist System est une unité de photorésistance de qualité industrielle de pointe spécialement conçue pour la photolithographie de wafer à haut volume et les procédés de revêtement de spin. Cette machine est capable de fournir des résultats précis et de haute résolution sur une variété de films, substrats et matériaux enrobés filés. ASSI SV-702 dispose d'une plate-forme de base pouvant accueillir jusqu'à huit spinner et deux encoches d'alignement pour le montage centré des substrats. Cette plate-forme est contrôlée par un écran tactile, permettant des réglages précis du programme. La pression de rotation et la vitesse de la plate-forme peuvent être ajustables à différents niveaux, et la plate-forme dispose d'une faible hauteur d'installation qui la rend adaptée à un large éventail d'applications de lithographie. L'outil est livré avec une variété d'outils pour des processus de spin-coating précis et à haut volume. Il comprend une demande de seringue automatisée, un carrousel de seringue chargée, une pale numérique et un spinner ergonomique. La demande de seringue permet à l'utilisateur de sélectionner le nombre exact de substrats et de spins dont il a besoin, tandis que le carrousel de seringue abrite une variété de seringues de sorte que différents types de photorésist peuvent être utilisés dans la même course. Pendant ce temps, la pale numérique assure un contrôle précis de la vitesse du mouvement du substrat, ainsi qu'une rétroaction sur le temps de processus. L'atout est également fourni avec de puissants outils de traitement photorésist, tels qu'une chambre de spin, un chargeur de masque et un minuteur de contrôle numérique. La chambre de spin offre un environnement propre pour le traitement de la photorésist, permettant le chargement et le déchargement rapides du substrat, ainsi que la protection de la photorésist de l'environnement. Le chargeur de masque permet un chargement précis et uniforme de résine photosensible sur le substrat et est capable de manipuler plusieurs substrats par défilement. La minuterie de contrôle numérique assure la surveillance en temps réel des temps de traitement des photorésistances, ce qui permet à l'utilisateur de répéter ou de séquencer les mêmes paramètres pour plusieurs opérations. Ensemble, ces caractéristiques permettent à ADVANCED SPIN Model INC SV-702 Photoresist Equipment de fournir des résultats précis et à haut volume pour une variété de processus de photolithographie. Le système est rapide, flexible et facile à utiliser, ce qui le rend idéal pour les usines de plaquettes, les fonderies, les fabricants de dispositifs intégrés et les universités.