Occasion ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #9397637 à vendre en France

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 est un système de photorésistance qui utilise une technologie de pointe pour produire des résultats spécifiques à la forme d'onde. Il est utilisé pour le revêtement et le développement de substrats photomasques pour un large éventail d'applications. L'ASSI SV-702 est équipé d'une technologie de pointe de filage avec une broche de 91 mm de diamètre, avec un contrôle de précision et une rotation à grande vitesse pouvant atteindre jusqu'à 14 000 RPM. L'unité comprend également une pompe à pression pour un contrôle accru du liquide et une meilleure adhérence du substrat, ainsi qu'une pompe centrifuge pour assurer un revêtement uniforme, ce qui réduit le film et les défauts. Le procédé photorésist de ADVANCED SPIN Machine INC SV-702 offre une programmabilité et une automatisation améliorées, permettant aux utilisateurs de définir une variété de paramètres de revêtement, y compris la vitesse de dépôt, l'accélération et la vitesse. Cette précision permet une plus grande uniformité et répétabilité, ce qui est essentiel pour optimiser l'enregistrement des photomasques et le temps d'exposition. Un écran LCD embarqué et un clavier fournissent un contrôle complet de l'outil. SV-702 dispose de diagnostics intégrés et de l'enregistrement des données, permettant aux utilisateurs de surveiller et de visualiser les données en temps réel. L'actif d'enregistrement des données évite les erreurs et évite l'exposition de matériaux indésirables au substrat. L'enregistrement intégré des données permet également un processus de débogage plus facile pour les défauts, et peut aider à assurer la répétabilité pour les projets de revêtement. ADVANCED SPIN Model INC/ASSI SV-702 est facile à mettre en place et offre une solution de revêtement photorésist fiable qui convient à une variété de projets avancés. Avec son filage avancé et son contrôle sophistiqué des processus, ASSI SV-702 peut fournir des résultats précis et uniformes de revêtement photomask avec une répétabilité et une cohérence supérieures.