Occasion ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-802 #9358969 à vendre en France

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-802 est un système de photorésistance spécialement conçu pour assurer un traitement lithographique à haut rendement des matériaux polymères à couches minces tels que les photorésistes à pas et à répétition. L'unité peut déposer des polymères photosensibles en couches minces avec un contrôle d'exposition très précis, tout en fournissant une large gamme de vitesses de spin-revêtement et d'angles de piste. La machine ASSI SV-802 prend également en charge les processus de réplication tels que le photorésistance, la réplication de motifs et le transfert de plaquettes. Le processus de lithographie à haute efficacité de l'outil est réalisé par son spin-coater de niveau de composants de précision. Ce spin-coater est capable de prendre jusqu'à 4 substrats à la fois et est équipé d'un moteur à engrenage de précision à haut volume pour un revêtement de rotation uniforme, lui permettant d'assurer un contrôle d'exposition de précision. Le spin-coater est également contrôlé par un PLC moderne pour assurer un processus de revêtement reproductible et cohérent. L'actif peut également déposer plusieurs polymères ayant des propriétés et une épaisseur de couche différentes. La porte de contrôle d'image avancée du ADVANCED SPIN Model INC SV-802 peut traiter avec précision les substrats avec des résolutions allant jusqu'à 200nm, tandis que son angle de piste peut être ajusté entre 0 et 180 ° par côté. De plus, les sources d'exposition multiples de l'équipement, les compteurs précis et le dispositif d'enregistrement des bords offrent un niveau élevé de précision, de répétabilité et de vitesse. SV-802 système est également équipé d'une unité d'exposition aux inondations dorsales unique qui peut être utilisé pour le processus dorsal ou la couverture partielle du substrat. L'unité peut également Aligner avec précision et résoudre le motif désiré du substrat. Les capacités avancées de ADVANCED SPIN Machine INC/ASSI SV-802 en ont fait le choix idéal pour une gamme d'étapes dans les procédés de fabrication de lithographie en couches minces, du revêtement résistant à la réplication. C'est également une option idéale pour une gamme de procédés, tels que la fabrication de semi-conducteurs, la production de couches minces organiques et inorganiques, la production de dispositifs à cristaux liquides, etc. Avec un large éventail de caractéristiques et des résultats précis et précis, ASSI SV-802 est un outil de résistance photosensible puissant et fiable.