Occasion AGAR SCIENTIFIC 108C #9221130 à vendre en France

AGAR AGAR SCIENTIFIC 108C est un équipement de haute performance de résistance photo conçu pour produire des résultats fiables et cohérents pour les applications de lithographie commerciale. Il s'agit d'un système photorésist à traitement à sec monocouche avec une adhérence supérieure, une meilleure impression de retard après exposition et d'autres caractéristiques. AGAR 108C est une solution photosensible à base d'eau, constituée de composants photosensibles très stables tels que l'acrylate et les matériaux de résistance à base de polyhydroxystyrène. Ces matériaux sont spécifiquement conçus pour être utilisés en lithographie optique pour créer des motifs et des caractéristiques sur des plaquettes semi-conductrices. L'unité de photorésistance est constituée d'un monomère photocurable liquide qui est appliqué sur la surface de la plaquette avant l'exposition au film. Lors de l'exposition, les molécules photosensibles subissent une réaction de polymérisation en chaîne qui conduit à une structure polymérique réticulée. Il a une excellente résolution, petite taille et bon angle de flanc. AGAR AGAR SCIENTIFIC 108C est conçu pour simplifier les procédures de travail. Sa technologie unique de cuisson avant exposition et son impression postexposition retardée réduisent le nombre d'étapes du processus et contribuent à améliorer le débit. Il offre également d'excellentes performances sur une large gamme de matériaux sensibles et de conditions d'exposition. AGAR 108C est bien adapté pour les applications nécessitant une impression haute résolution et un contrôle de recouvrement avancé. Il est disponible dans différentes formulations, telles que les résistances au ton positif, au ton négatif et au double ton, pour s'adapter à différentes techniques et dispositifs d'exposition. Il est également compatible avec une large gamme de matériaux de revêtement standard et avancés. En outre, AGAR AGAR SCIENTIFIC 108C est extrêmement résistant aux solvants et aux températures élevées, permettant une stabilité supérieure à long terme. Il est également résistant aux processus de gravure, évitant la perte de fidélité des motifs et améliorant le rendement. Dans l'ensemble, AGAR 108C est une photorésist haute performance qui offre des caractéristiques robustes et des performances fiables à long terme pour des applications de lithographie optique de qualité commerciale. Il permet aux utilisateurs de créer de manière fiable des caractéristiques fines et des motifs sur les plaquettes semi-conductrices avec une grande précision et répétabilité.