Occasion AIO 603-4 Sonic Fog #9124425 à vendre en France

AIO 603-4 est une variante du système photorésist de Sonicate, conçu pour une lithographie de haute qualité dans un cadre de recherche. Il est en mesure de produire des caractéristiques précises avec une largeur de ligne extrêmement faible jusqu'à 10nm, ce qui lui permet d'être utilisé pour la modélisation submicronique dans des applications telles que MEMS et écrans. L'unité comprend une source laser qui émet à une longueur d'onde de 248nm, qui est dirigée sur une plaque de substrat. Le laser est obturé à des vitesses extrêmement élevées pour contrôler l'exposition de la résine photosensible. Le laser est modulé pour permettre des passages multiples de longueurs d'onde et d'intensités différentes, permettant à l'utilisateur d'optimiser la résolution de la zone décrite. L'unité est également capable de réaliser des motifs d'exposition à très faible énergie, ce qui permet de créer des motifs non linéaires de sorte que de grandes caractéristiques peuvent être modélisées avec plus d'intensité tandis que de petites caractéristiques peuvent être modélisées avec une intensité plus faible. AIO 603-4 dispose également d'un revêtement anti-reflets sur la plaque de substrat, ce qui contribue à réduire la diffusion du faisceau laser, à maintenir les faisceaux focalisés et à permettre des longueurs de linéarité plus étroites. AIO 603-4 est également livré avec un étage Z de précision, qui sert à positionner la plaque de substrat par rapport à la source laser. On s'en sert pour s'assurer que le faisceau laser est correctement aligné avec le substrat pour assurer un brassage précis et reproductible. L'unité est équipée d'un système automatisé pour exposer et développer la résine photosensible, ce qui aide à maintenir le processus de lithographie rapide et précis. La capacité de développement et de décapage permet de développer de multiples motifs sur le substrat sans avoir besoin d'un nettoyage manuel. En conclusion, AIO 603-4 Sonic Fog fournit d'excellents motifs pour une lithographie de haute qualité dans un cadre de recherche. Sa capacité à produire des caractéristiques avec une largeur de ligne extrêmement faible, ainsi que son exposition automatisée et le système de développement le rend idéal pour les applications nécessitant un traitement submicronique.