Occasion AIR BROWN SPD160RN #9258130 à vendre en France

L'équipement de photorésistance AIR BROWN SPD160RN est un système automatisé conçu pour des performances supérieures dans les systèmes modernes de lithographie optique. Il fournit une couche de résistance haute résolution et haute précision qui peut être utilisée pour la comparaison des conceptions de masques et des motifs pour des processus de fabrication avancés de circuits intégrés (IC) exigeants. Cette unité photorésist intègre un ensemble complet et avancé de matériaux et d'équipements de couche photorésist tels que l'étage avancé de transfert de substrat (ASTS) qui permet un contrôle précis et l'alignement de la plaquette dans la machine de photorésistance, ainsi que l'outil avancé de livraison de photorésist (ADD) qui est capable de fournir une couche de résistance cohérente et précise pour la fixation fiable des appareils IC. SPD160RN actif photorésist intègre également un certain nombre de technologies spécialisées pour assurer des performances supérieures d'exposition à travers l'espace et la fiabilité. Cela comprend des fonctionnalités avancées telles que la technologie de nettoyage à haute vitesse (HCT) qui permet un processus de nettoyage à haute vitesse à un coût réduit, la technologie de recouvrement à haute précision (HOT) qui assure un motif et des caractéristiques de haute précision, et la technologie d'alignement laser (LAT) qui effectue des opérations d'alignement précises avec une vitesse et une précision plus élevées. De plus, le modèle intègre également une fonction d'alignement de forme et d'auto-correction optimisée (OMAC) qui contribue à améliorer la précision du motif photorésist. En outre, cet équipement de photorésistance utilise également des systèmes optiques avancés pour s'assurer que la lumière a une intensité maximale à chaque pixel, fournissant une plus grande précision et uniformité à chaque exposition. Ceci permet également un meilleur contrôle des paramètres optiques afin d'obtenir une résolution supérieure pour des applications de photolithographie exigeantes. Le système est également équipé d'outils et de logiciels de lithographie avancés, tels qu'une suite de modélisation avancée (AMS) conçue pour rationaliser le processus de photolithographie, ainsi que l'unité de surveillance avancée des performances des modèles (APPM) qui vérifie automatiquement la qualité des modèles et détecte les défauts éventuels. D'autres fonctionnalités de la machine comprennent des processus d'alignement rapides, des algorithmes d'optimisation pour améliorer la précision des motifs, ainsi qu'un support capable de flexo-LIGA pour assurer une génération précise de motifs à l'échelle du nanomètre. En conclusion, AIR BROWN SPD160RN photoresist outil est conçu pour offrir des performances supérieures dans les systèmes de lithographie optique avec sa gamme complète de fonctionnalités et de technologies. Ses matériaux, équipements et logiciels de pointe fournissent une couche de photorésistance qui fournit une description fiable et précise des appareils IC, ainsi qu'une résolution et une uniformité supérieures pour les applications de photolithographie exigeantes.