Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Raider ECD 310 #9202573 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Raider ECD 310 est un équipement de photorésistance pour des applications avancées de lithographie. Il offre la plus grande précision et précision pour la fabrication des dispositifs, fournissant une résolution précise et des conditions d'exposition critiques nécessaires à la fabrication des circuits haute performance, de la mémoire et des circuits intégrés à grande échelle. AMAT Raider ECD 310 utilise un rayonnement ultraviolet profond (DUV) émis par une source laser hélium-cadmium excimère, capable de produire des expositions en longueur d'onde de l'ordre de 248 à 308 nm. Il est capable de fournir des expositions intenses nécessaires dans les applications de lithographie les plus avancées. L'optique du système est alignée avec précision pour la précision des paramètres critiques d'imagerie tels que la focalisation, la planéité du champ et la télécentricité. Le scanner à miroir haute vitesse, conçu pour un débit maximal, offre une excellente fidélité à l'image et une stabilité cadre-à-cadre. La conception sophistiquée du scanner permet une résolution allant jusqu'à 915nm, permettant une focalisation précise sur les modèles de circuit les plus difficiles. L'unité photorésist assure une épaisseur uniforme des couches appliquées sur les substrats, permettant un contrôle précis des dimensions critiques et donnant des images parfaites avec un alignement quasi parfait. La machine est équipée d'un poste d'enrobage intégré qui facilite l'application uniforme de photorésist et une couverture de surface efficace. Les éléments optiques primaires et secondaires, y compris le laser, le film exposé et le scanner, sont tous enfermés dans une seule chambre pour le contrôle de l'environnement. Ceci assure une précision lithographique maximale en fournissant un environnement thermique stable, tout en minimisant la variabilité due à la réaction chimique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Raider ECD 310 est un outil très adapté pour des applications de fabrication à haut volume et de conception critique. Il offre une résolution de pointe et une précision d'exposition pour la création de géométries ultra-fines, se révélant ainsi un outil essentiel pour produire les circuits les plus avancés au monde.