Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Raider ECD #9197689 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Raider ECD est un équipement de photorésistance avancé qui permet des applications supérieures de photolithographie. Ce système repose sur une unité photorésistante à tonalité positive, sensible au faisceau d'électrons, qui offre une résolution supérieure, une faible défectivité et une meilleure résistance aux solutions alcalines de développement. Il est optimisé pour la performance d'une variété d'applications de traitement avant et arrière. La résine photosensible utilisée par AMAT Raider ECD est composée d'un matériau résistif positif d'une résine de type silicone, du PMMA et d'autres additifs. La résine est sensible aux faisceaux d'électrons et est extrêmement sensible aux processus d'exposition tels que la lumière ultraviolette, les rayons X et les faisceaux d'électrons. La résine est typiquement déposée sur une plaquette semi-conductrice ou un autre substrat par un procédé de spin-coating. La photorésist a deux fonctions principales : d'une part, établir le contact avec la couche cible et, d'autre part, protéger le substrat sous-jacent lors du traitement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Raider ECD peut réaliser ces deux fonctions grâce à son outil à deux couches. La première couche est dite résiste de base, tandis que la seconde couche est dite couche de liaison. La base résiste assure une protection lors du traitement et réduit la réflectivité. Il sert de barrière mécanique et chimique forte pour protéger le substrat sous-jacent contre la contamination et les dommages résultant de l'exposition à des environnements de salles blanches tels que l'acide, la base, les solvants, les etchants, etc. La résine de base sert également d'adhésif pour la couche de liaison qui est formée après exposition à une résine photosensible. La couche de liaison est une partie non affectée de la couche de résine photosensible qui reste attachée à la couche cible après la fin du processus de mise à terre. Cette couche permet de minimiser les défauts de contact et de masquage d'oxyde, ce qui permet une résolution supérieure et une adhésion supérieure au substrat. Raider ECD offre une résistivité et une adhérence supérieures à une variété de substrats et de technologies de wafer. Il a également une excellente définition des bords et amélioré la propreté et l'uniformité post-développement. Le modèle est également extrêmement rapide, présentant une vitesse et un débit supérieurs pour d'autres systèmes de photorésistance. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS L'équipement Raider ECD est conçu pour optimiser les performances d'une variété de processus en sous-traitance de semi-conducteurs et de dispositifs MEMS. Il peut être utilisé avec une gamme de matériaux, y compris le cuivre, l'aluminium et les cages de Faraday siliciques, le nitrure de silicium et les oxydes stanniques. Le système est également compatible avec les procédés d'électrodéposition, offrant des résultats supérieurs en termes de remplissage, de planarité et d'uniformité. En conclusion, AMAT Raider ECD unit est une solution de photorésistance avancée qui fournit une résolution supérieure et une faible défectivité, ainsi qu'une meilleure résistance aux développeurs alcalins. Cette machine est un excellent choix pour le traitement lithographique, permettant une définition supérieure des bords, une vitesse et un débit supérieurs, et une excellente résistivité et adhérence à une large gamme de substrats.