Occasion AND ASP-2000LX #9375092 à vendre en France

ET ASP-2000LX est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour le traitement de la production à haut volume de composants micro ET MEMS. Ce système offre le plus haut niveau de précision ET de répétabilité disponible pour la fabrication de composants avec une taille de caractéristique minimale de 7µm. ASP-2000LX utilise une unité de distribution bi-station optimisée, qui gère deux têtes de distribution empilées pour une distribution double précise de matériau photorésist. Cette machine dispose également d'un imageur haute résolution avancé avec une résolution limitée à la quasi-diffraction. Doté de 8x ET 16x zoom optique, AND ASP-2000LX réalise l'imagerie détaillée des caractéristiques de photorésist qui sont aussi petites que 7µm dans la taille. ASP-2000LX dispose d'une bibliothèque intégrée de paramètres photorésist, qui simplifie la sélection des résistances ET fournit un chargement automatique des paramètres basé sur le type de photorésist. Cette bibliothèque stocke également diverses recettes, telles que les temps de développement pré-programmés, permettant aux utilisateurs de s'ajuster rapidement pour différents matériaux de substrat ET paramètres de fabrication. Les outils intégrés d'alignement de plaquettes utilisent un champ d'alignement haute résolution pour placer avec précision des motifs de photorésist sur la plaquette au besoin. Une fonction automatisée de correction des défauts permet aux utilisateurs d'ajuster la mise au point des images photorésistantes pour compenser d'éventuels défauts ET de s'assurer que les images sont correctement transférées sur la plaquette. L'outil de traitement photorésist offre également des communications unifiées par prisme, toutes les données pertinentes étant envoyées directement aux machines et/ou aux systèmes d'intégration de réseau. Cette fonctionnalité permet un contrôle avancé de l'actif de traitement de la résine photosensible, tout en surveillant les étages de la résine photosensible. ET ASP-2000LX est conçu pour la production en grand volume de composants avec une grande précision ET répétabilité. Les fonctionnalités avancées ET les fonctionnalités de ce modèle photorésist permettent un traitement précis des composants MICRO ET MEMS d'une taille minimale de 7µm, ce qui en fait un choix optimal pour la fabrication à haut volume de composants dans un large éventail d'industries.