Occasion AND ASP-2000LX #9375095 à vendre en France

L'équipement de photorésistance ET ASP-2000LX est un système de photolithographie de pointe conçu pour la micro-fabrication très précise de matériaux semi-conducteurs ET d'autres produits sensibles. Cette unité de lithographie est capable de produire des structures aussi petites que 0,5 microns (0,0000002 pouces). La machine dispose de multiples fonctionnalités conviviales, telles que l'exposition multicouche, qui accélère le processus en exposant simultanément plusieurs couches, ainsi que le mécanisme avancé d'enregistrement de l'alignement. ASP-2000LX la conception de l'outil utilise une source lumineuse double propriétaire. L'actif est fourni avec une lampe à mercure non filtrée ET un tableau LED filtré qui fournit un large spectre de lumière. Ces deux sources lumineuses peuvent être utilisées séparément, ou ensemble dans une large gamme d'expositions multicouches. La conception de la source de lumière double augmente le débit ET le débit, tout en fournissant une plus grande précision ET la résolution dans son processus de photolithographie. L'exposition à plusieurs couches est activée par l'enregistrement d'alignement de précision. Ce mécanisme utilise une combinaison d'alignement de vision, d'étage XY automatique, d'interféromètre laser ET de méthodes de détection de bord pour assurer un alignement précis entre les couches multiples. L'étage automatique XY est également livré avec un contrôleur de précision, pour le positionnement exact des bords de couche. En plus de l'exposition multicouche de haute précision, le modèle AND ASP-2000LX est équipé d'un équipement de développement de photographie avancé qui permet le traitement automatisé des images photorésistantes. Cela comprend la photochimie automatisée, résister à l'étape de développement ET l'inspection post-développement. Le système automatisé garantit que chaque couche est développée uniformément, ET avec une haute résolution constante. En outre, ASP-2000LX unité est équipée d'un enregistreur de données embarqué. Cet enregistreur de données centralisé permet une collecte facile ET sécurisée des résultats d'essais ET des données de développement. Cela permet aux opérateurs d'examiner ET d'analyser la performance des processus ET de développer de meilleurs paramètres de processus. ET ASP-2000LX photorésist est un outil puissant ET fiable pour la microfabrication précise des matériaux sensibles ET semi-conducteurs. Avec sa technologie de pointe de source de lumière double, sa capacité d'exposition multicouche, son enregistrement d'alignement de précision, son outil avancé de développement de photographie ET son enregistreur de données embarqué, cet atout est un modèle de lithographie efficace ET très rentable pour la production de produits photorésistants de haute qualité.