Occasion APT 3025 #49738 à vendre en France

L'APT 3025 est un équipement photorésist de haute performance qui est conçu pour être utilisé pour la fabrication de composants de circuits intégrés (IC) dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est un système de gravure avancé qui utilise un revêtement photorésist comme couche de protection entre la couche métallique et la couche de substrat. Cette couche de résine photosensible est destinée à pouvoir absorber et retenir sur des photons qui traversent le dispositif, assurant ainsi une barrière entre la couche de substrat et la couche métallique. 3025 unité de photorésistance est composée de trois composants distincts : un revêtement de photorésist, une machine de transfert de substrat, et une source de lumière UV. Le revêtement photorésist est un matériau spécialisé qui est capable d'absorber la lumière visible de sorte qu'un motif de lignes ou de formes peut être formé avec précision. Cette couche est ensuite transférée au substrat de manière uniforme à l'aide d'un outil de transfert de substrat. La source de lumière UV est utilisée pour exposer la couche de photorésist à un rayonnement ultraviolet qui provoque la gravure des lignes et des formes dans la couche de substrat. L'actif APT 3025 utilise une variété de composants pour s'assurer que la couche de résine photosensible est de la plus haute qualité et de la plus haute intégrité. Par exemple, le modèle de transfert de substrat est conçu pour traiter la couche de photorésist par un traitement chimique particulier afin d'assurer que la couche de photorésist est homogène et exempte de toute imperfection. En outre, la source de lumière UV est spécialement conçue pour fournir la quantité optimale d'émission de rayonnement pour la tâche souhaitée. Dans l'industrie des semi-conducteurs, la précision et la précision sont des facteurs cruciaux pour la production de composants IC de haute qualité. 3025 matériel de photorésistance est conçu pour répondre à ces besoins, car il permet le placement et la gravure extrêmement précis de la couche de photorésist. Ce système de pointe est capable de créer des motifs complexes avec des lignes très fines et une définition de caractéristiques extrêmement élevée qui fournit un niveau de précision très élevé dans le processus de fabrication. APT 3025 intègre également plusieurs autres fonctionnalités avancées qui lui permettent d'effectuer plus de tâches que la simple gravure. Par exemple, il est également équipé d'une unité de décapage de résines qui est utilisée pour éliminer tout excès de photorésist qui reste après la gravure. En outre, il est également capable d'optimiser les motifs pour qu'ils puissent être adaptés à une application donnée. De plus, des caractéristiques telles que la vitesse variable de la tête de balayage et les temps d'exposition variables permettent d'adapter le processus aux besoins spécifiques de chaque projet. Dans l'ensemble, 3025 photorésist est un outil puissant et très efficace pour fabriquer des composants IC avec précision, précision et efficacité. Ses caractéristiques avancées, telles que l'outil de décapage de résistance, la vitesse variable de la tête de balayage et les temps d'exposition variables, en font un atout extrêmement flexible qui peut être optimisé pour effectuer diverses tâches avec facilité. Avec ses capacités, ce modèle est un atout précieux pour l'industrie des semi-conducteurs et est sûr d'être une partie importante du paysage manufacturier pour les années à venir.