Occasion AR BROWN H1220RNN #293589158 à vendre en France

AR BROWN H1220RNN est un équipement de photorésistance conçu pour fournir une solution de microfabrication haute performance aux fabricants de semi-conducteurs. C'est un système de photorésist avancé qui offre une exposition de précision avec la capacité de traiter un large éventail de matériaux, des films métalliques minces aux revêtements polymères épais. L'unité photorésist utilise une technologie de pointe pour garantir des performances et une fiabilité exceptionnelles. Il comprend un photomasque et une source de lumière à haute sensibilité, ainsi que des optiques spéciales et des filtres pour définir avec précision le bord du photomasque. Cela fournit une imagerie haute résolution qui permet la lithographie de petites caractéristiques. La machine comprend également un réservoir de procédé. Ce réservoir permet un traitement précis et répétable des matériaux photorésistants. Le réservoir est équipé d'un mélangeur de haute précision et de rails de guidage réglables pour permettre l'acheminement précis de la résine photosensible à la plaquette. Il est également équipé d'un outil de remplissage automatique pour assurer une couverture uniforme. H1220RNN actif est capable de traiter un large éventail de substrats, y compris le verre, le quartz et les polymères. Il dispose d'une exposition UV avancée et d'un modèle de développeur automatisé pour traiter rapidement les applications photorésistantes. La photomasque, le processeur et la source lumineuse sont intégrés dans un environnement fermé et étanche aux poussières de la NASA afin d'obtenir des résultats optimaux. L'équipement produit des images lithographiques à haute résolution qui sont utilisées dans la production de divers appareils, y compris des LED et des composants de téléphone mobile. Il convient à la production en grand volume de composants microélectroniques multiples, y compris d'autres semi-conducteurs, dispositifs d'affichage et dispositifs photoniques. Le système photorésist AR BROWN H1220RNN est un choix idéal pour les projets de microfabrication. Il offre une solution lithographique fiable et performante avec des résultats exceptionnels. L'unité est capable de traiter les substrats avec une grande précision et offre une large gamme de matériaux photorésistants pour une variété d'applications.