Occasion ARGUS INTERNATIONAL 9324 #9026013 à vendre en France

ARGUS INTERNATIONAL 9324 est un équipement de haute précision conçu pour une utilisation professionnelle dans la production de systèmes microélectromécaniques (MEMS). Le système permet des expositions précises grâce à son procédé breveté de lithographie sans masque utilisant une plate-forme de traitement de la lumière numérique (DLP). Sa large gamme de longueurs d'onde permet à l'utilisateur d'expérimenter une variété de résistances et de matériaux. De plus, le temps d'exposition est réglable, ce qui permet des résultats plus précis. 9324 utilise une source lumineuse à l'état solide qui peut être commutée/commandée pour fournir différentes longueurs d'onde. Cela le rend idéal pour les projets de micro et sous-micro-lithographie et fournit des conditions de focalisation optimales pour divers objets. Par rapport à d'autres systèmes photorésistants, l'ARGUS ARGUS INTERNATIONAL 9324 garantit une excellente stabilité d'installation à long terme et des exigences minimales de maintenance. Il dispose également d'une unité d'étalonnage automatique qui assure une dose d'exposition précise en tout temps. Le champ de vision complet fourni par 9324 est de 10 « à 6.14 », tandis que la résolution maximale est de 40µm pour les structures rectangulaires et de 80µm pour les structures rondes. Il peut manipuler des échantillons jusqu'à 8 « par 6,14 » et sa grande fidélité et précision fournit des conditions optimales pour différentes gravures. La machine est équipée d'un large éventail de programmes qui couvrent une variété d'applications, telles que la gravure de couches, les couches d'oxydes épaisses et minces, les couches métalliques denses et minces, les revêtements de protection, etc. De plus, tous les procédés liés aux photorésists peuvent être contrôlés par l'outil de contrôle automatisé fourni par ARGUS INTERNATIONAL 9324. Cet atout permet à l'utilisateur d'ajuster le temps d'exposition, la dose et le nombre de processus, ainsi que de surveiller le développement, l'imagerie et la gravure. 9324 offre un excellent équilibre entre polyvalence et performance. Sa lithographie masquée brevetée garantit une grande précision et peut être facilement intégrée à la majorité des systèmes de production disponibles sur le marché. Par conséquent, ce modèle photorésist fournit une solution idéale pour les laboratoires de recherche universitaires ou les installations de la ligne de production.