Occasion ASI 9025 #9026017 à vendre en France

ASI 9025 est un équipement de photorésistance développé par Allied Signal Inc. (ASI) qui crée une couche de photorésist sur un substrat. La photorésist est un matériau sensible à la lumière qui est utilisé pour modeler des surfaces de substrat dans le cadre d'un processus de lithographie. Il peut être utilisé dans une variété d'applications, y compris pour la création de circuits intégrés semi-conducteurs, d'écrans plats et de composants micro-électroniques. 9025 système de photorésist utilise un processus de double exposition pour produire le motif désiré sur le substrat. Au cours de ce procédé, le substrat est d'abord exposé à une couche de résine photosensible préalablement trempée dans une solution de sel d'ammonium. Ce processus est connu sous le nom de « soft bake ». La résine photosensible est ensuite exposée à une source lumineuse, telle qu'une lampe à mercure, qui déclenche une réaction chimique où des molécules sensibles à la lumière réagissent avec le matériau du substrat. Une fois le motif désiré créé à ce stade, il est prêt à passer par le processus de gravure. La deuxième étape de l'unité de photorésistance est appelée « hard bake ». Il s'agit d'une source de lumière plus intense et nécessite généralement des étapes supplémentaires, telles que la pré-cuisson ou la post-cuisson, afin de s'assurer que le produit final répond aux spécifications du client. Au cours de cette phase du procédé, la résine photosensible est à nouveau exposée à la source lumineuse, mais cette fois, à une intensité plus élevée et à un rythme beaucoup plus rapide. Cela permet de graver le motif désiré avec plus de définition et de précision. La photorésist ASI 9025 est une méthode polyvalente et durable pour créer un motif très précis sur un substrat. Le processus de double exposition garantit que chaque substrat est exposé à la lumière à l'intensité et à la vitesse appropriées, assurant que le motif désiré est gravé avec précision et fiabilité. Le processus en deux étapes permet également d'assurer des résultats de haute qualité et un gaspillage minimal sur le substrat, maximisant l'efficacité et les économies pour le client. L'outil de photorésistance est hautement personnalisable, ce qui permet aux clients d'ajuster l'épaisseur de la photorésist, son exposition à la lumière et sa vitesse de réaction au besoin pour leurs applications. Dans l'ensemble, 9025 photorésist actif est une méthode efficace et fiable pour créer des motifs précis sur les substrats. Avec son processus de double exposition et ses options personnalisables, il offre un moyen efficace et rentable de créer des produits de haute qualité dans une variété d'applications.