Occasion ASML / SVG 90S #9197270 à vendre en France

ASML/SVG 90S est un équipement de photorésistance qui utilise une combinaison d'imagerie UV profonde et d'énergie lumineuse pour créer des motifs sur les plaquettes. Ce système est conçu pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs et offre une précision exceptionnelle et une reproductibilité en taille. SVG 90S est une unité évolutive qui offre la plus grande précision de longueur d'onde d'exposition et la répétabilité des caractéristiques disponibles. Il dispose d'un ensemble optique avancé qui fournit un champ de vision complet avec une ouverture numérique maximale bien configurée. La machine combine un outil d'imagerie de projection d'exposition, des composants optiques avancés, et une source de lumière de choix pour fournir plusieurs niveaux d'intensité d'énergie lumineuse. ASML 90S utilise un algorithme de reconnaissance de motifs pour faire correspondre la sortie d'énergie lumineuse aux motifs projetés à chaque niveau d'appareil. Cela améliore considérablement la précision et la reproductibilité des caractéristiques. L'actif est conçu avec un algorithme d'exposition à haute vitesse qui permet un temps d'exposition court et des vitesses de fonctionnement rapides. Cela peut se traduire par une amélioration de la fiabilité et de l'optimisation des processus. Le modèle est conçu pour un traitement efficace et précis des petites et grandes tailles de fonctionnalités. Il offre également des procédés reproductibles pour les couches critiques. Ceci est extrêmement important pour l'industrie des semi-conducteurs lors de la création de caractéristiques fines complexes. 90S est extrêmement convivial avec une interface graphique intuitive et est certifié pour les systèmes certifiés. Il dispose de dispositifs de sécurité intégrés pour la protection des opérateurs et des équipements. En résumé, ASML/SVG 90S est un équipement d'imagerie de haute précision et de combinaison d'énergie lumineuse qui offre une précision supérieure et une reproductibilité des caractéristiques. Il combine des composants d'assemblage optique avancés et un algorithme de processus pour créer des motifs complexes avec précision et efficacité. Il dispose de fonctions intuitives de contrôle et de sécurité qui garantissent des opérations fiables et sûres. Ce système photorésist est un atout extrêmement précieux pour l'industrie des semi-conducteurs.