Occasion ASML XT 1900Gi #9298751 à vendre en France

ASML XT 1900Gi est un équipement de photorésistance développé par ASML, un fournisseur leader d'équipements de lithographie pour l'industrie des semi-conducteurs. Le système est un outil photolithographique qui est utilisé dans les procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs pour créer des motifs sur les plaquettes semi-conductrices. Il est basé sur une unité de lithographie UV profonde et est utilisé pour créer des motifs de haute précision sur les plaquettes. La machine utilise une source d'exposition au faisceau E et une source de lampe à arc Mercure. La source d'exposition de l'outil est capable d'une large gamme de longueurs d'onde - de 147 nm à 193 nm, selon l'application. La source d'exposition dispose également d'un obturateur laser réglable et de paramètres réticulaires. L'actif est équipé d'un modèle optique avancé qui combine une conception optique avec une technologie de mise au point fractionnée. L'équipement dispose d'un mandrin de plaquette de pointe qui est conçu pour réduire la contamination des particules et la dégradation de l'optique. Le traitement photorésist du système est contrôlé par un contrôleur avancé qui permet un contrôle précis de la cohérence et de la précision du processus. L'unité est compatible avec une variété de produits chimiques et supporte à la fois les procédés de gravure au solvant et à sec. En plus de cela, la machine est capable de manipuler une variété de matériaux de résines photosensibles y compris ArF, KrF, et I-line. L'outil peut également être utilisé comme outil d'exposition car il dispose d'un pas multi-canaux, wafer de haute résolution. Le stepper dispose de moteurs linéaires haute résolution et d'une technologie de compensation d'axe rapide. En outre, l'actif est également équipé d'une grande table à mandrin capable de manipuler des substrats d'une taille allant jusqu'à 600 mm. Les capacités d'automatisation avancées du modèle offrent une solution efficace et fiable pour gérer les opérations de production. Il s'intègre avec ASML Automation Server, permettant aux utilisateurs de gérer et d'optimiser facilement le processus de production, ainsi que de surveiller et de contrôler toutes les séries de production à partir d'un emplacement central. En plus des capacités d'automatisation de l'équipement, le système est également équipé d'une unité de livraison chimique qui permet une livraison contrôlée de produits chimiques à la source d'exposition pour graver, résister et nettoyer les processus. La machine est également équipée d'un outil de gestion des échantillons qui fournit un flux de travail efficace pour la manipulation des échantillons. Dans l'ensemble, ASML XT:1900GI photoresist actif est un outil d'exposition puissant et fiable pour les applications de lithographie. Il offre un haut degré de précision de processus, des capacités d'automatisation, et la flexibilité. Ce modèle est une solution économique pour créer des motifs semi-conducteurs de haute précision sur les plaquettes.