Occasion ASML XT 1900Gi #9375189 à vendre en France

ASML XT 1900Gi est un équipement de photorésistance conçu pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. L'entrée du système est une exposition à la lumière ultraviolette qui est utilisée pour créer un motif physique sur une plaquette semi-conductrice qui sert de modèle pour le processus de fabrication. La sortie de l'unité est une image numériquement précise qui est transférée à la plaquette. La machine utilise un outil d'imagerie à très haute résolution et une source de lumière ultraviolette de haute puissance qui est capable de quinze fois la résolution de lithographie standard. Cela permet à l'actif de générer des motifs et des structures incroyablement précis sur la plaquette, permettant le développement de composants microélectroniques extrêmement sophistiqués. En outre, le modèle peut être utilisé à la fois dans les applications de lithographie en écriture directe et de lithographie en contact. ASML XT:1900GI est équipé d'un module de montage de réticule intégré et d'un équipement de manutention automatique des plaquettes. Cela permet au système d'obtenir un degré extraordinaire de précision et de répétabilité. Les plaquettes sont alignées avec précision et solidité sur le module de montage du réticule puis transférées au combineur d'exposition, assurant une corrélation précise entre les éléments de conception de la plaquette et l'image générée par l'unité. L'unité comprend également un scanner intégré capable de générer des images très détaillées. Ce scanner est équipé d'une optique haute résolution, lui permettant de générer des motifs et des structures complexes avec une clarté inégalée. En outre, la machine est capable de générer des images à un rythme rapide, ce qui permet une gamme de nouvelles applications. XT1900 GI est hautement automatisé, ce qui en fait une solution idéale pour les processus photolithographiques qui nécessitent des motifs extrêmement précis. De plus, l'unité est facile à utiliser et à entretenir, ce qui lui permet d'être déployée dans une grande variété d'environnements de production. Il est également compatible avec une gamme de matériaux et procédés potentiels de substrat, permettant la réalisation d'un large éventail de dispositifs microélectroniques. En conclusion, XT:1900GI est un outil de photorésistance puissant qui a été optimisé pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. Il offre des capacités d'imagerie exceptionnellement haute résolution, un tissage précis et une mise en scène rapide, permettant la fabrication de structures complexes et extrêmement précises.