Occasion ASML XT 1900Gi #9401777 à vendre en France

ASML XT 1900Gi est un outil lithographique de haute performance conçu pour la fabrication de micropuces. C'est un équipement de photorésistance de pointe avec une résolution maximale d'imagerie de 250 nanomètres. Le système dispose d'un laser UV ultra-court, ainsi que d'une suite de protocoles avancés de contrôle et de mesure des processus, lui permettant d'exposer rapidement et avec précision la résine photosensible et d'autres matériaux pour créer des motifs complexes sur le substrat. ASML XT:1900GI est capable de travailler avec un large éventail de matériaux, allant de la photorésist organique traditionnelle à des photorésists nanocristallins synthétiques et copolymères blocs plus modernes. L'unité est composée d'une plate-forme d'immersion-lithographie, avec une machine de vision avancée pour l'alignement et l'enregistrement des motifs. Pour l'alignement des masques, XT1900 GI utilise un outil avancé d'imagerie en lumière structurée, qui surveille et ajuste en permanence la position du masque pendant l'exposition. L'atout utilise également un large champ de vision caméra qui peut voir toute la zone du substrat, permettant un positionnement précis et la surveillance des petites fonctionnalités. En outre, XT:1900GI comprend un modèle de contrôle de processus de photolithographie avancé, utilisant une capacité de modélisation et de simulation avancée qui garantit une grande précision d'image, même lorsque les matériaux varient. L'équipement est également capable d'effectuer rapidement un réalignement de la tranche à la tranche et de surveiller les fluctuations des processus grâce à un système de métrologie avancé. L'unité dispose également d'une plate-forme d'automatisation intégrée, avec un cadre avancé pour gérer à la fois le contrôle matériel et logiciel du processus de lithographie. Cela permet à la machine de s'intégrer rapidement et facilement à d'autres équipements de processus et systèmes distants, tels que les systèmes d'analyse automatisés, de poursuivre la tendance à la miniaturisation et d'améliorer le débit de l'outil. ASML XT1900 GI est un nouvel actif photorésist fiable, précis et efficace pour le semi-conducteur fab moderne. Il est très polyvalent, offrant la capacité de traiter avec précision un large éventail de matériaux, avec une résolution capable de produire même les motifs les plus complexes. Associé à ses capacités avancées de contrôle des processus et d'automatisation, XT 1900Gi est un excellent outil pour les fabricants de puces à la recherche des plus hauts niveaux de qualité et de rendement.