Occasion ASYMTEK C 341 #9225861 à vendre en France

L'équipement de photorésistance ASYMTEK C 341 est une solution idéale pour une distribution et un revêtement reproductibles de haute précision pour une variété de produits et de procédés, tels que l'argentage et le chromage sur des surfaces de plaquettes et des couches minces sub-microns. Il offre une distribution très précise, répétable et précise de photorésist avec une résolution sous-micron. Le système C 341 utilise une technique de distribution unique appelée « Cold Spray » pour appliquer précisément de la résine photosensible sur un substrat. Cette méthode utilise une technique de pulvérisation à froid par laquelle la résine photosensible est distribuée à une température extrêmement basse conduisant à un contrôle précis et précis de l'épaisseur du revêtement de la résine photosensible. Le procédé de pulvérisation à froid permet également de contrôler avec précision toute déviation de bord de la résine photosensible provoquée par les conditions du substrat. L'unité ASYMTEK C 341 utilise une buse à air unique pour amener la résistance à la surface du substrat, éliminant le contact entre le substrat et la buse et éliminant ainsi tout dommage physique potentiel au substrat ou à tout autre produit qui pourrait être exposé par le contact de la buse. De plus, la machine C 341 dispose de capacités de chronométrage et de contrôle avancées telles que les réglages de temps de retard, le contrôle de vitesse et une variété d'oscillations permet de distribuer et de revêtir avec précision la résine photosensible avec un excès de rayon minimal. Ceci garantit une qualité et une homogénéité supérieures dans les revêtements photorésistants. En outre, la fonction d'autodiagnostic de l'outil garantit des performances répétables et fiables, réduisant les exigences de surveillance et de maintenance. Atout ASYMTEK C 341 fournit un niveau avancé de contrôle des processus et est utilisé dans un large éventail d'applications, y compris le prototypage, l'impression, le masquage, l'assemblage et les assemblages étape-et-répétition. Cette flexibilité permet de manipuler le plus large éventail de composants avec la même répétabilité de haute précision. En outre, le modèle est convivial et peut être intégré dans les processus existants avec un minimum de temps et d'effort. C 341 matériel de photorésistance est un procédé économique et de haute précision pour l'application de photorésist sur des substrats. Avec son large éventail d'applications et ses capacités de contrôle avancées, il est idéal pour la production à petite et grande échelle.