Occasion BREWER SCIENCE Apogee bake FL #293659674 à vendre en France

BREWER SCIENCE Apogee bake FL est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour le déploiement de systèmes de résistance au film. Ce système est adapté aux besoins de lithographie de haut volume, permettant des processus rapides, fiables et reproductibles. L'unité fonctionne en contrôlant à la fois la vitesse de rotation et le temps de traitement appliqué à la résine photosensible, puis en faisant cuire la couche de résine sur la surface de la plaquette. La machine utilise une méthode unique de « spin-and-bake » pour créer une couche de revêtement uniforme et fiable. Cette méthode implique un revêtement à base de spinner, suivi d'une cuisson de haute précision en milieu fermé. Avec ce procédé, la résine est appliquée sur la plaquette à débit constant et dans un environnement sans COV. La cuisson de haute précision est obtenue avec l'utilisation d'éléments chauffants et de capteurs de précision. L'outil est capable de contrôler avec précision la température et le temps, assurant une répartition uniforme de la chaleur. Les dimensions de la chambre de cuisson sont optimisées pour une répartition uniforme des températures jusqu'à 230 ° C, ce qui permet un temps de cuisson le plus court possible. Apogee bake FL dispose également de logiciels automatisés avancés, permettant aux utilisateurs de créer des recettes automatisées, des fichiers de traitement et des paramètres de contrôle pour affiner l'actif pour des exigences spécifiques. Les utilisateurs pourront programmer les sous-systèmes pour optimiser leurs résultats, tels que la vitesse et l'heure de l'alimentation en bardeaux, le temps de séjour de la filière, la vitesse de la chambre d'infiltration, la consigne de température, et d'autres paramètres. De plus, le modèle est équipé d'une gamme de recettes de traitement embarquées. En plus de l'automatisation des procédés, l'équipement offre un certain nombre de caractéristiques de sécurité et de protection de l'environnement, telles que l'autocontrôle des températures, de faibles émissions chimiques et une technologie efficace d'économie d'énergie. Cela garantit un environnement sûr et écologique sur le lieu de travail. BREWER SCIENCE Apogee bake FL est un système de photorésistance avancé et efficace qui est conçu pour répondre aux besoins de lithographie de haut volume. Il offre une couche de revêtement uniforme, un contrôle précis de la température, des recettes automatisées et une gamme de caractéristiques de sécurité et d'environnement. Avec l'unité, les utilisateurs peuvent obtenir des résultats répétables et fiables, assurant leur succès dans une multitude d'applications de lithographie.