Occasion BREWER SCIENCE CEE 100 #9265628 à vendre en France

Le photorésist BREWER SCIENCE CEE 100 est un système de résistance au film sec à amplification chimique négative conçu pour répondre aux besoins des industries microélectronique, micro-mécanique et optique. Il offre une haute résolution et un rendement élevé avec un faible retard après exposition, une latitude d'imagerie supérieure et une largeur de ligne et une rugosité de bord minimales. La résine est composée de deux composants différents, la résine et le révélateur. La résine est typiquement un polymère qui porte une charge négative, avec un additif d'activation de surface de liaison ionique. Cette combinaison aide le photorésist à absorber la lumière, ce qui crée une image latente. Sous sa forme résineuse, la résine est appliquée en couche mince sur un substrat, tel qu'une plaquette. Lorsqu'elle est exposée à la lumière d'une certaine longueur d'onde ultraviolette, la résine absorbe la lumière et devient une masse sèche, qui est l'image humide. Le développeur est ensuite appliqué sur l'image humide et reste sur les zones exposées, de sorte que seules les zones non exposées sont couvertes dans le développeur. Le développeur aide à supprimer les sections non exposées de la résistance pour révéler une image du motif original. Les avantages de la photorésist BREWER SCIENCE CEE-100 sont sa latitude de processus et son faible délai de post-exposition. Il a une haute résolution, avec une taille minimale de 0,5 um, et un rendement élevé. Il a une rugosité minimale de ligne et de bord et fournit une excellente imagerie. Il a également une longue durée de conservation et est relativement facile à traiter. La latitude du processus est extrêmement importante pour la photolithographie car elle permet de produire des images à haute résolution quelles que soient les conditions d'exposition. La photorésist CEE 100 est adaptée à diverses applications, y compris les masques réticulaires et les masques de scan, les systèmes microélectromécaniques (MEMS), les disques optiques, les puces logiques et mémoires, les trames à transistor à couches minces (TFT) et les puces à semi-conducteurs de puissance. Il est également utilisé pour la lithographie de faisceau d'électrons de haute énergie, la lithographie de faisceau d'électrons de basse énergie et la lithographie d'immersion liquide. En conclusion, CEE-100 photorésist est un produit idéal pour ceux qui recherchent des images à haute résolution avec un délai de post-exposition minimal, tout en ayant une largeur de ligne minimale et une rugosité de bord de ligne. Il convient aux exigences de performance à court terme et à long terme tout en étant facile à traiter. Sa longue durée de conservation en fait un choix idéal pour un large éventail d'applications.