Occasion BREWER SCIENCE CEE 100 #9329155 à vendre en France

BREWER SCIENCE CEE 100 est un équipement de photorésistance pour le traitement lithographique, qui utilise des polymères sensibles à la lumière pour créer des motifs sur un substrat. Le système utilise un produit chimique sensible à la lumière, ou photorésist, qui est sensible à l'imagerie et peut être sélectivement exposé à la lumière ou bloqué par la lumière. La résine photosensible est généralement appliquée en couche mince sur le substrat et sélectivement exposée à la lumière pour créer le motif désiré. La résine photosensible exposée est ensuite lavée, révélant le motif sous-jacent dans le substrat. BREWER SCIENCE CEE-100 développe ce concept en utilisant une unité d'impression haute résolution en couleur. Grâce à un design breveté, cette machine produit des motifs plus rapidement et avec une plus grande précision que les méthodes traditionnelles. Il élimine également la nécessité d'utiliser des solvants et d'autres produits chimiques durs pendant le processus d'impression tout en produisant des dessins complexes. Le CEE 100 permet de produire des motifs de plus haute résolution qu'avec d'autres systèmes de photorésistance grâce à l'utilisation d'une source de lumière UV ou ultraviolette. Cette source lumineuse produit un faisceau lumineux intense qui est encore filtré à travers les masques avant d'atteindre le substrat. Cela garantit que la résine photosensible n'est exposée que dans les zones souhaitées, ce qui permet la création de motifs incroyablement détaillés. En outre, CEE-100 comprend un outil d'entraînement optique auto-référencé, qui est capable de positionner avec précision les substrats ainsi que les masques utilisés pour le marquage. Cela garantit que tous les éléments sont correctement alignés au cours du processus. Cet atout permet également aux utilisateurs de placer avec précision des motifs sur le substrat pour des applications multicouches ou pour une intégration ultérieure dans des étapes de traitement supplémentaires. Dans l'ensemble, BREWER SCIENCE CEE 100 fournit un modèle photorésist convivial pour la création de motifs complexes avec une résolution plus élevée que les autres systèmes. Son équipement d'entraînement optique auto-référencé à côté de la source de lumière UV permet aux utilisateurs de produire avec précision et rapidité des motifs sur un substrat avec une utilisation minimale de produits chimiques ou de solvants durs. Ce système est bien adapté à une multitude d'applications des cartes de circuits imprimés à la fabrication de composants microélectroniques.