Occasion BREWER SCIENCE CEE 100CB #293620102 à vendre en France

BREWER SCIENCE CEE 100CB est un équipement de photorésistance polyvalent de pointe conçu pour une gamme d'applications photolithographiques. Les photorésistes sont des matériaux généralement utilisés pour développer des motifs sur les semi-conducteurs, MEMS/NEMS, et des affichages parmi d'autres applications. BREWER SCIENCE CEE 100 CB est une solution à base d'époxyde à tonalité positive pour les applications photorésistantes. Il convient à la photolithographie à basse température sur les surfaces planaires et 3D. Les composants du système comprennent un époxyde novolaque, une amine de base de Schiff et un tensioactif incolore. L'époxyde novolaque offre une excellente résistance à la gravure et une stabilité photospatiale, permettant un contrôle précis des profils de gravure. De plus, la faible absorbance thermique du CEE 100CB empêche toute distorsion de surface. L'amine de base Schiff est utilisée comme générateur de photoacides pour améliorer encore la résolution du motif. Le tensioactif incolore améliore la reconnaissance de la structure exposée en augmentant la photospace de la résine. La photosensibilité de CEE 100 CB est comprise entre 230 et 270 nm, ce qui permet d'utiliser l'unité avec des sources d'exposition i-ligne, G-ligne et KrF. De plus, la résine photosensible peut être développée avec des solutions aqueuses ou à base de solvant selon l'application. BREWER SCIENCE CEE 100CB est bien adapté pour une variété d'applications de haute précision. Il excelle dans des applications telles que les substrats semi-conducteurs, la fabrication MEMS/NEMS et les structures de test d'affichage. En outre, sa bonne définition des bords et sa haute résolution le rendent idéal pour les procédés lithographiques impliquant des caractéristiques de petite taille. En résumé, BREWER SCIENCE CEE 100 CB est une machine à résistance positive conçue pour des applications photolithographiques. Ses composants offrent une excellente résistance à la gravure, une stabilité photospatiale et une résolution, tandis que sa photosensibilité lui permet d'être utilisé avec diverses sources d'exposition. Ces caractéristiques combinées à sa bonne définition de bord et sa capacité à se développer avec des solutions aqueuses ou à base de solvant le rendent idéal pour une variété d'applications de haute précision.