Occasion BREWER SCIENCE CEE 100CB #9237990 à vendre en France

BREWER SCIENCE CEE 100CB est un équipement photorésistant complet spécialement conçu pour les procédés de lithographie. Il est uniquement conçu selon la technologie des bulles, ce qui signifie qu'il est très capable de produire des appareils nannétiques de pointe et des structures 3D LP avancées. Il a une chimie photorésistante qui a réagi uniformément avec une matrice polymère uniforme et offre des performances et une stabilité robustes. En outre, il fournit un processus de cuisson post-exposition intégré et est prêt à l'emploi. Ce système fait appel à un révélateur liquide qui aide à maintenir un développement uniforme, ce qui élimine l'excès de matériau photorésist, permettant ainsi un contrôle précis de l'épaisseur du film. Cette photorésist est conçue avec un contrôle de contraste avancé qui aide à produire des films de meilleure qualité avec une résolution supérieure. Cette machine présente également une grande solubilité pour permettre l'imagerie avec une large latitude d'exposition. En outre, il permet une capacité de haute résolution jusqu'à 90nm. Cet outil est également conçu avec un faible besoin en énergie d'exposition, permettant un faible débit et un rendement amélioré. Une autre caractéristique de BREWER SCIENCE CEE 100 CB est l'amélioration de la planéité de surface qui est produite par la performance globale des suppresseurs de tensioactifs. Cette caractéristique est intéressante en ce qu'elle est capable d'améliorer le rendement du dispositif. De plus, cet atout est également compatible avec plusieurs diélectriques et supporte plusieurs processus de gravure sèche. Sa matrice polymère est conçue pour assurer que les conceptions et les images ne se dégradent pas lorsqu'elles sont exposées à des environnements extrêmes, d'où une performance optimale du film. L'autre caractéristique de ce modèle est sa variabilité de vitesse de rotation qui assure la plus grande uniformité de la photorésist. Il est également conçu avec des revêtements anti-reflet qui réduisent les réflexions et la perte de signal. Il est également capable de supporter à la fois des processus simples et doubles. En outre, il a une bonne précision d'enregistrement qui assure un transfert de motif fiable sur les grandes plaquettes. En outre, il est formulé pour être résistant à la contamination métallique par des lignes d'interconnexion en aluminium et cuivre, offrant ainsi une fiabilité à long terme améliorée des puces. En conclusion, l'équipement de photorésistance CEE 100CB est un système avancé et complet qui est conçu pour obtenir des résultats optimaux dans l'application tels que la nanofabrication et la microélectronique. Il est équipé de nombreuses fonctionnalités utiles, telles que le développement uniforme et la capacité de haute résolution, qui sont utiles pour produire des films de haute qualité avec une résolution supérieure. De plus, sa matrice polymère et ses revêtements antireflets améliorent la fiabilité à long terme et les performances dans des environnements difficiles.