Occasion BREWER SCIENCE CEE 1100 Custom #136934 à vendre en France

ID: 136934
Programmable vacuum hot plates for up to 500 x 500mm substrates PID temperature programmer Maximum temperature: 280°C with 0.1°C resolution (10) User programs for bake temperature, time, and bake method Bake methods: proximity, soft, or hard contact Lift frames: fully programmable controlled loading of substrate onto hotplate Auto cooling cycle to speed cool-down.
BREWER SCIENCE CEE 1100 est un équipement de photorésistance personnalisé conçu pour produire des structures plus fines et plus complexes. Les photorésistes sont des matériaux polymériques qui sont appliqués sur des substrats puis exposés à la lumière afin de créer des motifs et des structures. Le CEE 1100 se compose d'une formulation chimique, d'un système intégré d'exposition et d'imagerie et d'un processus de développement chimique. Ce produit particulier est spécifiquement conçu pour les flux de travail de photolithographie les plus complexes. La formulation chimique du CEE1100 est constituée d'un liant contenant trois composants ; le film organique formant, un composé acide qui contribue à la réticulation et un initiateur qui initie la polymérisation du liant. Cette formulation permet une exposition rapide, une imagerie et une gravure à haute résolution, et une grande sensibilité à une large gamme de longueurs d'onde. L'unité d'exposition et d'imagerie intégrée est composée d'une source de rayonnement qui produit le bon type de lumière, d'une lentille qui focalise la lumière et d'un bras articulateur qui peut être réglé pour s'assurer que la lumière est de la bonne intensité pour exposer la résine photosensible. De plus, il fournit une image de la résine photosensible après exposition, permettant à l'utilisateur de vérifier la qualité de l'image et d'effectuer les ajustements nécessaires avant de développer la résine photosensible. Enfin, le procédé de développement chimique utilise un révélateur acide pour dissoudre toute résine photosensible non exposée. Ceci laisse des motifs dans la résine photosensible exposée qui ont été créés par la machine d'exposition. Les développeurs peuvent être formulés pour différents protocoles temps/température, rendant le processus compatible avec différents substrats et applications. En résumé, BREWER SCIENCE CEE 1100 Custom photoresist outil est conçu pour fournir aux utilisateurs des capacités avancées en photolithographie. Il s'agit d'une formulation chimique innovante, d'un actif d'exposition et d'imagerie intégré et d'un processus de développement chimique qui permet une exposition, une imagerie et une gravure plus rapides et plus complexes. Avec la CEE 1100, les utilisateurs peuvent produire des structures plus fines et plus complexes avec plus de précision et de vitesse.
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