Occasion BREWER SCIENCE CEE 200 #293765608 à vendre en France

BREWER SCIENCE CEE 200 est un équipement de photorésistance conçu pour une gamme d'industries telles que la fabrication de semi-conducteurs et la fabrication de circuits imprimés (PCB). Le système comprend une gamme de solutions qui aident à produire des motifs de haute qualité sur divers substrats tels que des plaquettes de silicium, de l'arséniure de gallium ou des PCB sans plomb. L'unité CEE 200 comprend deux composants : le photorésist, ou matériau sensible à la lumière, et les composants pour exposer le matériau photorésist à une source lumineuse. Dans les systèmes photorésistants, le matériau photosensible est un revêtement qui adhère à une partie d'un substrat ; lorsque ce revêtement est exposé à une source lumineuse, le matériau exposé aura une réaction chimique, soit le durcissement, soit le ramollissement du matériau. Brewers BREWER SCIENCE CEE 200 photoresist machine s'appuie sur un film de type activateur qui est ensuite exposé à divers activateurs pour créer une gamme de différents conseils ou fonctionnalités. Après exposition de la résine photosensible aux activateurs, elle subit une réaction chimique, un durcissement ou un adoucissement selon les composants actifs chimiques. Une fois le substrat exposé aux activateurs, il est alors prêt pour le procédé de masquage. Le procédé de masquage est lorsqu'un motif de photorésist est formé sur le matériau du substrat, ce qui conduit à des motifs prédéterminés qui deviennent la base de la fabrication ultérieure. Le brasseur CEE 200 est utilisé par de nombreuses industries, car il permet des modèles de précision, et permet la formation de modèles complexes avec une exposition unique. La photorésist exposée permet aux utilisateurs de former une variété de motifs qui peuvent ensuite être transférés à d'autres matériaux. Brasseurs L'outil de photorésistance BREWER SCIENCE CEE 200 comprend également diverses options de post-exposition, de nettoyage et de développement. Après exposition, l'actif offre une grande variété d'options de lavage post-exposition telles que les nettoyants alcalins, acides et aqueux. Le nettoyage aide à éliminer tout activateur d'exposition restant et prépare le matériel pour le développement. Au cours du processus de développement, il est possible de générer une variété de caractéristiques telles que des tranchées, des rainures, des fentes, ou des connexions électriques. Le modèle photorésist Brewer CEE 200 est une méthode efficace pour produire des motifs sur différents substrats avec précision, permettant une fabrication rapide et efficace de diverses caractéristiques. En permettant aux utilisateurs de créer et de transférer des modèles complexes avec une seule exposition, l'équipement augmente la production pour de nombreuses industries.