Occasion BREWER SCIENCE CEE 2100 #77373 à vendre en France

BREWER SCIENCE CEE 2100 est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs pour graver, ou « développer », des caractéristiques dans des dispositifs microélectroniques et d'autres produits. Des systèmes photorésistants sont utilisés pour créer une image négative à la surface d'un substrat afin de graver ou d'enlever un matériau pour créer une forme ou un motif désiré. CEE 2100 est un système de photorésistance avancé conçu pour la production de dispositifs microélectroniques de haute valeur et de composants micro-structurés. L'unité de photorésistance BREWER SCIENCE CEE 2100 dispose d'une machine à vide cha & mbsp ; mber, porte-substrat et wafer pour le chargement et le déchargement rapides et efficaces des substrats. L'outil CEE 2100 comprend également un ensemble d'imagerie à double étage unique et efficace, qui assure la couverture photorésistante optimale de la surface du substrat. Le décapant photorésist est un outil spécialisé qui est utilisé pour éliminer l'excès de matériau photorésist de la surface du substrat et le nettoyant de substrat est utilisé pour nettoyer la surface du substrat avant d'enduire la photorésist. Le procédé photorésist commence par le cycle pré-procédé ou pré-propre où des tensioactifs, des solvants et des détergents sont utilisés pour préparer le substrat pour le revêtement. Le cycle de pré-processus est suivi d'un cycle de revêtement, qui est utilisé pour appliquer une couche uniforme et précise de matériau photorésist sur le substrat. La photorésist est alors exposée à un rayonnement électromagnétique qui est utilisé pour activer la photorésist et imprimer le motif désiré sur la surface du substrat. Des traitements post-exposition sont ensuite utilisés pour affiner encore l'image. La photorésist est durcie et développée, ce qui permet au photorésist de rester à la surface du substrat tout en excluant le motif désiré. Après développement, les pièces sont rincées dans un bain chimique humide, ce qui dissout la résine photosensible des zones restantes de la surface du substrat et laisse le motif désiré. Les dernières étapes du procédé de photorésist comprennent le nettoyage et le rinçage du substrat post-exposition, qui aident à éliminer tout matériau de photorésist résiduel de la surface du substrat. BREWER SCIENCE CEE 2100 actif est conçu pour la microélectronique avancée et les composants micro-structurés et offre un processus fiable, efficace et précis pour le traitement de la résine photosensible.