Occasion BREWER SCIENCE CEE 4000 #9378937 à vendre en France

BREWER SCIENCE CEE 4000
ID: 9378937
Style Vintage: 1999
Wafer track system 1999 vintage.
BREWER SCIENCE CEE 4000 est un équipement de photorésistance de pointe conçu à des fins de lithographie avancée. Il dispose d'une gamme complète de technologies de photorésistance et d'un design robuste très fiable pour une utilisation en salle blanche. BREWER SCIENCE 4000 est capable d'exposer la résine photosensible sous une gamme d'angles et une variété de masques de lithographie tels que les masques OPC et d'exposition à l'infini. Ceci le rend adapté à diverses applications telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et la microfabrication. Le CEE 4000 dispose d'un cycle de cuisson et de revêtement photorésist sous vide très fiable. Ce vide permet une cuisson à basse température des matériaux photorésistants pour une stabilité et un rendement photo-mécaniques maximaux. Le vide uniforme permet de contrôler le processus de lithographie et une imagerie à plus haute résolution. Sa vaste gamme de capacités de processus automatisés assure un temps de disponibilité et des économies maximales. Il comprend la formation automatisée de films liquides et secs, l'exposition, le traitement et les cycles de post-traitement. Cela augmente à la fois l'efficacité et l'uniformité de la production. 4000 intègre également un système de connectivité immersif permettant son intégration dans un flux de travail de fabrication numérique. Cela permet une collaboration accrue entre les ministères, les équipes et les systèmes. Il permet également aux utilisateurs de se connecter à des systèmes distants, permettant la télécommande et la surveillance de l'ensemble du processus. L'unité est certifiée pour une utilisation en salle blanche et dispose d'une buse pré-alignée pour une détection optimale des particules. Il dispose également d'un outil de filtration liquide en ligne pour assurer un environnement de traitement propre et minimiser les problèmes de particules et de contamination. En conclusion, BREWER SCIENCE CEE 4000 est un actif photorésistant de pointe conçu pour la lithographie avancée. Il dispose de capacités d'automatisation avancées, d'un cycle de cuisson et de revêtement photorésist sous vide hautement fiable et d'un modèle de connectivité immersif pour une plus grande collaboration et une télécommande. Cet équipement est un système de photorésistance fiable et économique adapté à une variété d'applications de lithographie.
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