Occasion BREWER SCIENCE CEE C100 #9192231 à vendre en France

BREWER SCIENCE CEE C100 (Chimically Enhanced Graching) est un équipement de photorésistance utilisé pour soutenir les caractéristiques gravées dans les processus de micro-fabrication. Ce système utilise un procédé unique pour lier une résistance à base de résine au matériau à graver. Plutôt que de s'appuyer sur une fixation chimique absolue du film - comme c'est le cas pour les photorésistes traditionnels - l'unité CEE C100 utilise un précurseur spécialement conçu pour les intermédiaires réactifs pour améliorer le collage de la résine sur le substrat. La machine BREWER SCIENCE CEE C100 a été conçue pour mettre en œuvre les capacités des photorésistes traditionnels tout en ajoutant une meilleure résistance à la déchirure, une meilleure adhérence par rapport au substrat et une résistance supérieure à la gravure chimique. La meilleure adhérence de la résistance au substrat permet une précision accrue de la fenêtre de gravure et plus de résolution pour les caractéristiques gravées. Pour commencer le processus, la surface du matériau est préparée de manière à maximiser l'interaction chimique entre elle et la couche de résine photosensible. Après dégraissage de la surface, on applique un précurseur propriétaire puis on laisse réagir avec la surface. Cette réaction permet de lier fermement la couche de résistance au substrat, créant ainsi la couche idéale pour les caractéristiques gravées. La couche de résine photosensible est alors exposée à la source lumineuse tréfilante dans la forme désirée. Les zones exposées deviennent chimiquement inertes et la solubilité protégée des produits chimiques de gravure, tandis que les zones non exposées restent exposées aux milieux de gravure. On laisse ensuite le processus de gravure se dérouler jusqu'à la profondeur et la forme souhaitées de la caractéristique souhaitée. Une fois le processus de gravure terminé, la couche de résine photosensible restante est retirée du substrat pour compléter la fonction de travail. L'outil CEE C100 offre jusqu'à 20x meilleure résistance à la gravure des résistances traditionnelles, avec une meilleure précision des fenêtres de gravure et des caractéristiques plus propres gravées. Dans l'ensemble, l'actif BREWER SCIENCE CEE C100 vise à améliorer la précision de gravure, la résolution, la résistance aux gravures chimiques, l'adhérence et l'auto-nivellement des photorésistances. La précision accrue de la fenêtre de gravure, une profondeur de gravure plus uniforme et un rendement accru font de ce modèle un choix idéal pour ceux qui cherchent à augmenter la précision et la répétabilité pour leurs besoins de micro-fabrication.